22pTD-6 極薄酸化膜のSi開口部におけるGe/Siナノ結晶の成長過程とステップ間相互作用

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 2000-09-10

著者

• 市川 昌和

  東大工

• 市川 昌和

  アトムテクノロジー研究体

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• 22pTD-6 極薄酸化膜のSi開口部におけるGe/Siナノ結晶の成長過程とステップ間相互作用
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