極薄Si酸化膜を用いたエピタキシャル量子ドット二次元ナノ配列構造の自己組織化と自己修復
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概要
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- 2010-12-10
著者
-
市川 昌和
東大工
-
彌田 智一
東京工業大学資源化学研究所
-
渡邉 亮子
(独)理化学研究所基幹研究所田中メタマテリアル研究室
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市川 昌和
東京大学大学院工学系研究科物理工学専攻
-
彌田 智一
東工大資源研
-
中村 芳明
大阪大学大学院基礎工学研究科
-
村山 昭之
東京大学大学院工学系研究科物理工学専攻
-
渡邉 亮子
東京工業大学資源化学研究所集積分子工学部門
-
彌田 智一
東京工業大学ERATO彌田プロジェクト
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