23pZN-8 Siの層状酸化
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2000-03-10
著者
-
市川 昌和
アトムテクノロジー研究体
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市川 昌和
半導体mirai-産総研asrc:東大
-
宮田 典幸
アトムテクノロジー研究体
-
渡部 平司
NEC基礎研
-
宮田 典幸
次世代半導体研究センター
-
宮田 典幸
半導体MIRAI-産総研ASRC
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渡部 平司
Nec基礎研究所
-
市川 昌和
東京大学 工学部 物理工学科
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