シリコン表面のLayer-by-Layer酸化

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概要

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• 日本表面科学会の論文
• 1999-04-10

著者

• 市川 昌和

  半導体mirai-産総研asrc:東大

• 宮田 典幸

  アトムテクノロジー研究体

• 渡部 平司

  アトムテクノロジー研究体

• 宮田 典幸

  次世代半導体研究センター

• 宮田 典幸

  半導体MIRAI-産総研ASRC

• 渡部 平司

  Nec基礎研究所

• 市川 昌和

  東京大学 工学部 物理工学科

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