市川 昌和 | Crest-jst:東大工

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概要

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関連著者

• 中山 泰生

  千葉大先進

• 中山 泰生

  千葉大学先進科学センター

• 市川 昌和

  Crest-jst:東大工

• 長谷川 修司

  東大理

• 平原 徹

  東大理

• 松田 巌

  東大理

• 沖野 泰之

  東大理

• 山崎 詩郎

  東大理

• 山崎 詩郎

  東京大学大学院理学系研究科物理学専攻

• 山崎 詩郎

  東京大学大学院理学系研究科:npo法人science Station

• 松田 巌

  東大物性研

• 保原 麗

  東大理

• 吉本 真也

  東大物性研

• 中村 芳明

  東大工

• 市川 昌和

  CREST-JST

• Konchenko Alexander

  JST

• 中村 芳明

  JST

• 中山 泰生

  JST

• 市川 昌和

  JST

• 松田 巌

  東京大学大学院理学系研究科物理学専攻

• 長谷川 修司

  東京大学大学院理学系研究科物理学専攻

• 中山 泰生

  CREST-JST

• 吉本 真也

  東大理

• 中山 泰生

  JSI-CREST

• 市川 昌和

  JSI-CREST

• 保原 麗

  東京大学大学院理学系研究科物理学教室

• 中山 泰生

  科学技術振興機構 戦略的創造研究推進事業

• 市川 昌和

  科学技術振興機構 戦略的創造研究推進事業

• 中村 芳明

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 長谷川 修司

  東京大学大学院理学研究科

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著作論文

• 20aYE-2 酸化Si表面上Geナノドットの量子サイズ効果の直接観測(表面ナノ構造量子物性,ナノチューブ・ナノワイヤ,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 18aTG-11 極薄Si酸化膿上Geナノドットの伝導機構の研究(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 27pYB-11 極薄Si酸化膜上Geナノドットの閉じ込めポテンシャルと電気伝導特性(27pYB 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 極薄Si酸化膜上Geナノドットの界面構造と閉じ込めポテンシャル

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