極薄Si酸化膜上Geナノドットの界面構造と閉じ込めポテンシャル
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概要
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- 日本表面科学会の論文
- 2006-09-10
著者
-
中山 泰生
千葉大先進
-
中山 泰生
千葉大学先進科学センター
-
松田 巌
東京大学大学院理学系研究科物理学専攻
-
長谷川 修司
東京大学大学院理学系研究科物理学専攻
-
中山 泰生
科学技術振興機構 戦略的創造研究推進事業
-
市川 昌和
科学技術振興機構 戦略的創造研究推進事業
-
市川 昌和
Crest-jst:東大工
-
長谷川 修司
東京大学大学院理学研究科
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