Effect of Oxygen Impurities on Thermal Diffusivity of AlN Thin Films Deposited by Reactive RF Magnetron Sputtering
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概要
著者
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Taketoshi Naoyuki
National Inst. Of Advanced Industrial Sci. And Technol. Ibaraki Jpn
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Baba Tetsuya
Department Of Pure And Applid Sciences University Of Tokyo:national Research Laboratory Of Metrology
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Shigesato Yuzo
Graduate School Of Science And Engineering Aoyama Gakuin University
-
Baba Tetsuya
National Metrology Institute of Japan (AIST), Tsukuba Central 3, 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8563, Japan
-
Yagi Takashi
National Metolorogy Institute of Japan, AIST, Tsukuba, Ibaraki 305-8563, Japan
-
Oka Nobuto
Graduate School of Frontier Sciences, The University of Tokyo
-
Okabe Takashi
Graduate School of Science and Engineering, Aoyama Gakuin University, Sagamihara 252-5258, Japan
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