Photocatalytic Activity of WO3 Films Crystallized by Postannealing in Air
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概要
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We devised an effective method of deposition of photocatalytic WO3 films for the decomposition of volatile organic compounds. Amorphous WO3 films were deposited on unheated fused silica glass substrates by reactive DC magnetron sputtering with a W metal target, followed by crystallization through annealing at 300--800 °C in air. Under visible light irradiation, a film annealed at 400 °C proved significantly more effective than a WO3 film crystallized during deposition on a heated (800 °C) substrate for achieving photocatalytic decomposition of CH3CHO. Even more remarkable photocatalytic results were obtained for a film that was loaded with Pt nanoparticles after postannealing.
- 2012-05-25
著者
-
岡 伸人
青学大理工
-
岡 伸人
東大
-
OKA Nobuto
Graduate School of Science and Engineering, Aoyama Gakuin University
-
Oka Nobuto
Graduate School Of Science And Engineering Aoyama Gakuin University
-
岡 伸人
青山学院大学大学院理工学研究科
-
Shigesato Yuzo
Graduate School Of Science And Engineering Aoyama Gakuin University
-
Shigesato Yuzo
Graduate School of Science and Engineering, Aoyama Gakuin University, Sagamihara 252-5258, Japan
-
Oka Nobuto
Graduate School of Science and Engineering, Aoyama Gakuin University, Sagamihara 252-5258, Japan
-
Takashima Jyunya
Graduate School of Science and Engineering, Aoyama Gakuin University, Sagamihara 252-5258, Japan
-
Oka Nobuto
Graduate School of Frontier Sciences, The University of Tokyo
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