イオンエッチング法でブレーズされたホログラフィックグレーティングの製作
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概要
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A stable and suitable substrate for ion-etched holographic gratings is proposed and optical properties of the gratings are examined in detail. The blaze wavelength was easily controlled by changing the ion beam angle to the substrate and the absolute diffraction efficiency at 440 nm for Littrow mount was 73%. The anomaly of the efficiency was much less than that of the ruled grating. The wavefront quality was as good as that of holographic grating.
- 社団法人 日本分光学会の論文
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