原子レベルの表面構造制御による窒化物半導体の欠陥密度の低減
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
-
InAlGaN4元混晶を用いた紫外LEDの短波長化と高効率化(窒化物及び混晶半導体デバイス)
-
InAlGaN 4元混晶を用いた紫外LEDの短波長化と高効率化(窒化物及び混晶半導体デバイス)
-
23aK-13 AlGaN化合物半導体の真空紫外反射スペクトル
-
24aWB-2 グラファイト超薄膜における超伝導近接効果II(グラフェン(電子物性・スピン),領域7,領域4合同講演,領域7,分子性固体・有機導体)
-
24aWB-9 グラファイト超薄膜-強磁性体接合の電気伝導特性II(グラフェン(電子物性・スピン),領域7,領域4合同講演,領域7,分子性固体・有機導体)
-
24aRA-7 グラファイト超薄膜 : 強磁性体接合の電気伝導特性(グラファイト・グラフェン,領域7,分子性固体・有機導体)
-
24aRA-8 グラファイト超薄膜における超伝導近接効果(グラファイト・グラフェン,領域7,分子性固体・有機導体)
-
24aRA-9 グラファイト超薄膜の電気伝導におけるAlトップゲートによる電界効果(グラファイト・グラフェン,領域7,分子性固体・有機導体)
-
カーボンナノチューブ結合量子ドットの形成と量子相関デバイスへの応用
-
29pYS-10 カーボンナノチューブにおける量子ドット的電気伝導
-
カーボンナノチューブを用いた単一および結合量子ドット
-
GaN量子ドット紫外LEDの作製と光学特性
-
ナノテクノロジーと深紫外発光素子の開発
-
アンチサーファクタントによる GaN 層の低転位化
-
原子レベルの表面構造制御による窒化物半導体の欠陥密度の低減
-
24pSB-6 III-V窒化物半導体の真空紫外反射・吸収スペクトル
-
25aC-6 III-V族化合物半導体のK内殻吸収
-
Control of GaN Structural Dimensions
-
26p-YR-8 非S-K GaN量子ドットの成長機構I : 不純物添加によるステップフロー阻害効果
-
Gan系半導体の自己形成量子ドット
-
31a-YJ-9 GaN量子ドットにおける励起子結合エネルギーの増大
-
GaN量子ドットの成長機構とその光学特性 (ワイドギャップ半導体とそのデバイス応用論文小特集)
-
5a-E-3 GaN量子ドットの発光スペクトルの温度依存性
-
5a-E-2 GaN量子ドットの多励起子効果
-
GaN量子ドットの作製とレーザーへの応用
-
InAlGaN 4元混晶を用いた紫外LEDの短波長化と高出力化
-
24aPS-69 STM針による表面バンドに於ける電子の表面分布の制御
-
ナノデバイスへの期待
-
多層グラフェンにおける超伝導近接効果(不均一超伝導超流動状態と量子物理,研究会報告)
-
28pRC-10 ホール効果でみる有機単結晶への電界効果キャリア注入(28pRC 分子素子,領域7(分子性固体・有機導体))
-
18pRG-9 グラファイト超薄膜-金属接合の電気伝導特性(グラファイト,領域7,分子性固体・有機導体)
-
18pRG-7 グラファイト超薄膜における近接効果による超伝導電流の観測(グラファイト,領域7,分子性固体・有機導体)
-
26aZB-11 グラファイト超薄膜/金属電極接合の電極依存性(26aZB グラファイト,領域7(分子性固体・有機導体))
-
26aZB-12 グラファイト超薄膜の電気伝導の磁場・ゲート電圧依存性(26aZB グラファイト,領域7(分子性固体・有機導体))
-
3次元電子顕微鏡の開発
-
28pRC-16 銅フタロシアニン単結晶の電界効果とキャリヤ輸送特性(28pRC 分子素子,領域7(分子性固体・有機導体))
-
InAlGaN 4元混晶を用いた紫外LEDの短波長化と高効率化(窒化物及び混晶半導体デバイス)
-
ナノサイズのビーカーの中で何が起こるか
-
原子層成長による原子層フラクタル超格子の作製と評価
-
21aRJ-10 ペンタセン薄膜トランジスタの過渡応答の起源とバイアスストレス(有機FET1,領域7,分子性固体・有機導体)
-
トップコンタクト短チャネル有機薄膜トランジスタ(有機トランジスタ,有機材料・デバイス(有機トランジスタ,化学センサなど),一般)
-
AlGaNチャネルHEMTにおけるドレイン耐圧の向上
-
29pYS-10 カーボンナノチューブにおける量子ドット的電気伝導
-
26aF-12 カーボンナノチューブに形成された量子ドットの電気伝導特性
-
23aTA-8 InAlGaN 混晶系における内殻励起による可視・紫外発光
-
19pTJ-6 多層カーボンナノチューブの1次元伝導III
-
ナノスケール物質電気伝導探索のためのナノギャップ電極作製と応用
-
「応用物理」とブレークスルー
-
アンチサーファクタント処理を施したGaN薄膜の貫通転位
-
低次元ナノ構造物質の電気特性
-
30p-S-6 光誘起デジタルエッチングとその表面過程
-
LQE2000-25 パルスレーザーアブレーションによるGaNのエッチング加工
-
埋め込み量子ドット界面のサイト選択的 X 線吸収測定(半導体・エレクトロニクス)
-
28pPSB-12 ナノプローブ圧による半導体量子ドットのフォトルミネセンス増強効果
-
ガスソース分子線エピタキシャル成長GaNにおけるIn添加効果
-
材料科学と量子エレクトロニクス
-
コヒーレント科学
-
レーザー溶融法によるナノ微結晶Si薄膜の作製
-
レーザーアブレーションによる高温超伝導薄膜の配向制御
-
レーザーアプレーションによる酸化物薄膜の作成
-
X線レ-ザ-への期待
-
単原子層操作とその機構
-
半導体の単原子層操作
-
レーザーを用いた原子層エピタキシー
-
極限精密加工・成長 : レーザ単原子層制御結晶成長
-
アルゴンレ-ザMOCVD--GaAsの原子層成長への応用 (エキシマレ-ザ・光CVD)
-
光を用いた単原子層半導体結晶成長
-
磁場印加下で2次元スキャン可能な近接場光学顕微鏡の開発
-
21pXA-6 単層カーボンナノチューブの電気化学トランジスタ(フラーレン・ナノチューブ伝導,領域7(分子性固体・有機導体))
-
20pTH-11 ホール局在した n 型量子ドットアレーの近接場発光分光
-
31aYE-4 高分解能近接場光学顕微鏡による GaAs 量子ドットの励起子波動関数イメージング II
-
30pYH-12 ホールの局在した n 型量子ドットアレーの円偏向発光分光 II
-
28pTB-13 量子ドット正方格子のフェルミ面近傍時間分解発光スペクトルII
-
28pTB-12 量子ドット正方格子の空間分解発光スペクトル
-
横方向超格子ナノ構造の発光分光
-
横方向超格子ナノ構造の発光分光
-
28p-YP-3 実時間実空間高次差分法を用いた非線形応答関数の計算
-
InAlGaN4元混晶を用いた330nm帯高効率紫外LED(紫外発光材料の現状と将来)
-
InAlGaN4元混晶を用いた330mm帯高効率紫外LED : 紫外線発光の現状と将来シンポジウム
-
レーザー材料として見た半導体 : (In)AlGaN窒化物混晶の結晶成長と300nm帯紫外高輝度LEDへの応用
-
InAIGaN四元混晶を用いた300nm帯紫外高輝度LEDの開発
-
InAlGaN4元混晶を用いた330-350nm帯高効率紫外LED
-
InAlGaN4元混晶を用いた330-350nm帯高効率紫外LED
-
SC-4-9 2次元プレート積層による3次元フォトニック結晶の作製
-
フォトニック結晶を用いた半導体レーザの将来展望
-
GaN量子ドットの作製とレーザーへの応用
-
カーボンナノチューブを用いた量子ナノデバイス : 量子相関デバイスの実現に向けて
-
23pPSB-34 光アンテナを用いたナノスケール局所電場変調分光(領域5ポスターセッション,領域5,光物性)
-
カーボンナノチューブ量子ドットのテラヘルツ光応答(ミリ波・テラヘルツ波デバイス・システム)
-
異種基板上へのカーボンナノチューブ量子ドットの作製と評価
-
14pYB-8 単層カーボンナノチューブ量子ドットの励起スペクトル(量子ドット・量子閉じ込め : 実験, 領域 4)
-
30aYA-12 単層カーボンナノチューブ量子ドットにおけるShell Fillingとゼーマン分裂の観測(量子ドット(開放型・結合型・その他))(領域4)
-
カーボンナノチューブ量子ドットにおける単一電子スピンの発生 : スピンの量子操作を目指して(量子効果デバイス及び関連技術)
-
カーボンナノチューブ量子ドットにおける単一電子スピンの発生 : スピンの量子操作を目指して(量子効果デバイス及び関連技術)
-
28aYH-5 単電子トランジスタの電磁場環境問題
-
20aYH-6 量子ドットやドット列におけるフラクタル的な磁気抵抗
-
18pYJ-4 マルチ結合量子ドットにおける伝導度ゆらぎ
-
28aYX-10 多層カーボンナノチューブの1次元伝導 II
-
28aYS-9 ドットアレイにおける閉じ込め効果
-
27aTC-10 量子ドット列における低温磁気抵抗のフラクタル性
もっと見る
閉じる
スポンサーリンク