プロトンビーム描画による光導波路デバイス形成の基礎検討(光パッシブコンポネント(フィルタ,コネクタ,MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
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概要
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プロトンビーム描画(Proton Beam Writing:PBW)は,次世代の微細加工技術として注目されているが,PMMAへのプロトン照射による屈折率向上効果を利用することによって,光導波路形成への応用も可能である.我々は,これまでに,PBWを利用してPMMA直線導波路を試作し,波長155μmのシングルモード伝搬を確認しているが,今回我々は,導波実験からシングルモード条件の特定を試み,更にY分岐導波路の描画及び基本動作の確認を行ったので,報告する.
- 2010-12-10
著者
-
佐藤 隆博
原子力機構高崎量子応用研究所
-
神谷 富裕
原子力機構高崎量子応用研究所
-
佐々木 友之
長岡技科大・工
-
佐藤 隆博
日本原子力研究所 高崎研究所
-
大久保 猛
原子力機構
-
石井 保行
原子力機構
-
山崎 明義
日本原子力研究開発機構
-
三浦 健太
群馬大学大学院工学研究科
-
上原 政人
群馬大学大学院工学研究科
-
花泉 修
群馬大学大学院工学研究科
-
石井 保行
日本原子力研究開発機構
-
高野 勝昌
日本原子力研究開発機構
-
大久保 猛
日本原子力研究開発機構
-
江夏 昌志
日本原子力研究開発機構
-
横山 彰人
日本原子力研究開発機構
-
西川 宏之
芝浦工大 工
-
西川 宏之
芝浦工業大学
-
佐々木 友之
群馬大学大学院工学研究科
-
神谷 富裕
日本原子力研究所
-
加田 渉
日本原子力研究開発機構
-
桐生 弘武
群馬大学大学院工学研究科
-
Kada Wataru
Department of Advanced Radiation Technology, TIARA, JAEA, Takasaki, Gunma 370-1292, Japan
-
花泉 修
群馬大学 大学院工学研究科
-
佐々木 友之
長岡技科大
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