シロキサンのイオン照射改質と微細素子形成
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
-
OP-057-4 細胞内イオン局在可視化による大気マイクロPIXEを用いた食道癌細胞内シスプラチン局在と新規感受性評価(腫瘍基礎-3,一般口演,第110回日本外科学会定期学術集会)
-
集束プロトンビーム描画による微細加工と型加工への応用
-
P42 FeCl_2 を用いたスメクタイトの Fe 型化及びその酸化過程における残留塩素イオンの挙動
-
イオンマイクロビーム分析技術(マイクロPIXE)の生物・医学応用
-
プロトンビーム描画による波長1.5μm帯用シングルモードPMMA導波路(光パッシブコンポネント(フィルタ、コネクタ、MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
-
集束プロトンビーム描画による微細加工と応用
-
シリカ系フォトニクスガラスの高機能化
-
エキシマレーザ, γ線, および機械的応力による非晶質SiO_2中の常磁性中心の生成機構
-
発光減衰曲線の解析によるSiO_2の微視的構造の乱雑さの評価
-
シリコン酸化膜中の点欠陥の新しい検出法
-
シロキサンのイオン照射改質と微細素子形成
-
量子ビーム応用最前線 PBWで三次元微細加工技術の新地平を拓く
-
集束プロトンビーム描画による微細加工と型加工への応用 (特集 マイクロ・ナノモールディングを目指した金型加工技術)
-
マイクロビームによる高アスペクト比微細加工 (特集 分析及び微細加工へのイオンマイクロ・ナノビームの応用)
-
電子デバイスにおける電気絶縁
-
電気・電子工学および光工学分野における基盤材料としてのSiO_2 : 「欠陥制御」から「新機能の創出」へ
-
プロトンビーム描画による光導波路デバイス形成の基礎検討(光パッシブコンポネント(フィルタ,コネクタ,MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
-
2A1-G28 集束プロトンビーム描画を利用した微細加エシステムの提案
-
1A2-H07 ビームスキャンとステージ移動を併用した集束プロトンビーム描画システムの検討(MEMSとナノテクノロジー)
もっと見る
閉じる
スポンサーリンク