プロトンビーム描画による波長1.5μm帯用シングルモードPMMA導波路(光パッシブコンポネント(フィルタ、コネクタ、MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
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概要
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プロトンビーム描画は,次世代の微細加工技術として注目されているが,PMMAへのプロトン照射による屈折率向上効果を利用することによって,光導波路形成への応用も可能である.今回我々は,このプロトンビーム描画を利用してPMMA薄膜導波路を試作した.長さ10mm程度の直線導波路を作製,評価したところ,波長1.55μmにおいてシングルモード伝搬を確認できたので報告する.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2009-12-11
著者
-
佐藤 隆博
原子力機構高崎量子応用研究所
-
神谷 富裕
原子力機構高崎量子応用研究所
-
神谷 富裕
日本原子力研究開発機構高崎量子応用研究所
-
西川 宏之
芝浦工業大学 工学部 電気工学科
-
佐藤 隆博
日本原子力研究所 高崎研究所
-
小嶋 拓治
日本原子力研究所高崎研究所材料開発部
-
佐藤 隆博
原子力機構・高崎研
-
大久保 猛
原子力機構
-
石井 保行
原子力機構
-
小嶋 拓治
ラジエ工業
-
山崎 明義
日本原子力研究開発機構
-
三浦 健太
群馬大学大学院工学研究科
-
町田 裕貴
群馬大学大学院工学研究科
-
上原 政人
群馬大学大学院工学研究科
-
花泉 修
群馬大学大学院工学研究科
-
石井 保行
日本原子力研究開発機構
-
高野 勝昌
日本原子力研究開発機構
-
大久保 猛
日本原子力研究開発機構
-
井上 愛知
日本原子力研究開発機構
-
江夏 昌志
日本原子力研究開発機構
-
横山 彰人
日本原子力研究開発機構
-
小嶋 拓治
日本原子力研究開発機構
-
西川 宏之
芝浦工大 工
-
西川 宏之
芝浦工業大学
-
神谷 富裕
日本原子力研究所
-
小嶋 拓治
日本原子力研究所
-
花泉 修
群馬大学 大学院工学研究科
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