花泉 修 | 群馬大学 大学院工学研究科
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概要
関連著者
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花泉 修
群馬大学 大学院工学研究科
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花泉 修
群馬大学大学院工学研究科
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三浦 健太
群馬大学大学院工学研究科
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三浦 健太
群馬大学工学部
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加藤 裕司
群馬大学
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佐々木 友之
長岡技科大・工
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種村 豪
群馬大学大学院工学研究科
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花泉 修
群馬大学 工学部 電気電子工学科
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佐々木 友之
群馬大学大学院工学研究科
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星野 ひとみ
群馬大学
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江本 顕雄
長岡技術科学大学工学部
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小野 浩司
長岡技術科学大学工学部
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小野 浩司
長岡技術科学大学
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小野 浩司
長岡技術科学大学電気系
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小野 浩司
長岡技術科学大学 工学部
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武井 修
群馬大学大学院工学研究科
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狩野 一総
群馬大学大学院工学研究科
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伏木 厳穣
群馬大学大学院工学研究科
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シン マヤンク
群馬大学大学院工学研究科
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松本 敏明
群馬大学大学院工学研究科
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加藤 裕司
群馬大学大学院工学研究科
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星野 ひとみ
群馬大学大学院工学研究科
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花泉 修
群馬大学工学部
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江本 顕雄
長岡技術科学大学
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佐々木 友之
長岡技科大
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高野 勝昌
日本原子力研究開発機構
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三浦 健太
群馬大学 大学院工学研究科
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佐藤 隆博
原子力機構高崎量子応用研究所
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神谷 富裕
原子力機構高崎量子応用研究所
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佐藤 隆博
日本原子力研究所 高崎研究所
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大久保 猛
原子力機構
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石井 保行
原子力機構
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山崎 明義
日本原子力研究開発機構
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上原 政人
群馬大学大学院工学研究科
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石井 保行
日本原子力研究開発機構
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大久保 猛
日本原子力研究開発機構
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江夏 昌志
日本原子力研究開発機構
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横山 彰人
日本原子力研究開発機構
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西川 宏之
芝浦工大 工
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西川 宏之
芝浦工業大学
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平谷 雄二
ものつくり大学 製造技能工芸学科
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古賀 丈浩
群馬大学
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神谷 富裕
日本原子力研究所
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山本 春也
独立行政法人日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門
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吉川 正人
独立行政法人日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門
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神谷 富裕
日本原子力研究開発機構高崎量子応用研究所
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西川 宏之
芝浦工業大学 工学部 電気工学科
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小嶋 拓治
日本原子力研究所高崎研究所材料開発部
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佐藤 隆博
原子力機構・高崎研
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武井 修
群馬大学
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小嶋 拓治
ラジエ工業
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町田 裕貴
群馬大学大学院工学研究科
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井上 愛知
日本原子力研究開発機構
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杉本 雅樹
独立行政法人日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門
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高野 勝昌
独立行政法人日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門
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小嶋 拓治
日本原子力研究開発機構
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萩谷 吉樹
群馬大学 工学部 電気電子工学科
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小野 和孝
群馬大学
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小川 祐一
群馬大学
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松本 敏明
群馬大学
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平谷 雄二
株式会社古河S&D
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宮崎 弘規
群馬大学大学院工学研究科
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早川 崇志
群馬大学
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長谷川 祐造
群馬大学
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小嶋 拓治
日本原子力研究所
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加田 渉
日本原子力研究開発機構
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桐生 弘武
群馬大学大学院工学研究科
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新井 勇輝
群馬大学大学院工学研究科
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吉川 正人
独立行政法人 日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門 機能性セラミック材料研究グループ
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山本 春也
独立行政法人 日本原子力研究開発機構量子ビーム応用研究部門 機能性セラミック材料研究グループ
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Kada Wataru
Department of Advanced Radiation Technology, TIARA, JAEA, Takasaki, Gunma 370-1292, Japan
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新井 勇輝
群馬大学 大学院工学研究科
著作論文
- プロトンビーム描画による波長1.5μm帯用シングルモードPMMA導波路(光パッシブコンポネント(フィルタ、コネクタ、MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
- シリコンイオンを注入した石英板からの青色発光帯の観測
- 厚い異方性格子における偏光回折特性の結合波解析(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 厚い異方性格子における偏光回折特性の結合波解析(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 厚い異方性格子における偏光回折特性の結合波解析(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 厚い異方性格子における偏光回折特性の結合波解析(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 感光性ポリシランを用いた低消費電力熱光学素子(光波センシング, 光波制御・検出, 光計測, ニューロ, 一般)
- Si:SiO_2スパッタ膜におけるバンドギャップエネルギーに依存しない青色発光帯
- スパッタリング法によるErドープTaO_x薄膜の作製とその発光特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- スパッタリング法によるErドープTaO_x薄膜の作製とその発光特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- スパッタリング法によるErドープTaO_x薄膜の作製とその発光特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- スパッタリング法によるErドープTaO_x薄膜の作製とその発光特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 高周波スパッタリングによる紫外発光Si/SiO_2多層膜の作製
- スパッタリング法により作製したタンタル酸化物薄膜からの青色発光の観測(光パッシブコンポネント(フィルタ,コネクタ,MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
- フォトニック結晶構造の導入によるSi:SiO_2スパッタ膜の発光効率向上
- Si:SiO_2共スパッタ膜の発光起源の一検証とデバイス応用の検討(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- Si:SiO_2共スパッタ膜の発光起源の一検証とデバイス応用の検討(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- Si:SiO_2共スパッタ膜の発光起源の一検証とデバイス応用の検討
- RFスパッタリングによるアモルファスSi/SiO_2超格子構造の作製とその発光特性(光波センシング,光波制御・検出,光計測,ニューロ,一般)
- プロトンビーム描画による光導波路デバイス形成の基礎検討(光パッシブコンポネント(フィルタ,コネクタ,MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
- 高周波スパッタリングによるCdS系2次元フォトニック結晶の作製と発光特性の評価
- スパッタリング法による希土類ドープTa_2O_5薄膜の作製とその発光特性の評価(光パッシブコンポネント(フィルタ、コネクタ、MEMS)、シリコンフォトニクス、光ファイバ、一般)
- スパッタリング法による希土類ドープTa_2O_5薄膜の作製とその発光特性の評価