21aXB-6 H:Si(111)-(1×1)表面の初期酸化過程の研究II(21aXB 表面界面ダイナミクス,表面ナノ構造量子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2008-08-25
著者
-
山田 太郎
理研
-
粕谷 厚生
東北大学際セ
-
須藤 彰三
東北大院理
-
須藤 彰三
東北大学大学院理学研究科
-
瀧川 知昭
東北大院理
-
中矢 博樹
東北大院理
-
粕谷 厚生
東北大融合研
-
粕谷 厚生
学際セ
-
Szuba S.
Poznun Univ. of Tech. (Poland)
-
須藤 彰三
東北大学大学院理学研究科物理学専攻
-
粕谷 厚生
東北大学国際高等融合領域研究機構
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