19aWH-9 炭酸ガスレーザ照射によるSi(100)表面の酸化膜成長過程II(表面局所光学現象,領域9,表面・界面,結晶成長)
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2007-02-28
著者
-
須藤 彰三
東北大院理
-
須藤 彰三
東北大学大学院理学研究科
-
金田 寛
新潟大物質量子セ
-
木村 大介
東北大院理
-
Szuba S.
Poznun Univ. of Tech. (Poland)
-
須藤 彰三
東北大学大学院理学研究科物理学専攻
-
金田 寛
富士通研
-
棚橋 克人
富士通研
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