指紋と声紋によるハイブリッド認証システムの構築
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
本研究では,バックプロパゲーション法による3層階層型ニューラルネットワークを用いて指紋と声紋によるハイブリッド認証システムを構築した.指紋認証では2次元高速フーリエ変換と逆フーリエ変換によって前処理を行い,ニューラルネットワークへの入力データとした.声紋認証では高速フーリエ変換によって前処理を行い,ニューラルネットワークへの入力データとした.それぞれ各認証を行い,中間層・出力層ユニット数がニューラルネットワークの性能の及ぼす効果を明らかにした.さらに,可変の重み付きAND結合を用いた指紋と声紋によるハイブリッド認証システムを構築し,性能を調査した.これらの結果より, 3層階層型ニューラルネットワークが個人認証システムに有効であることを示した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2008-03-05
著者
-
小林 光
鳥取大学大学院工学研究科
-
田中 章浩
鳥取大学大学院工学研究科
-
岸田 悟
鳥取大学工学部電気電子工学科
-
岸田 悟
鳥取大学大学院工学研究科
-
長谷川 弘
鳥取大学大学院工学研究科
-
渡部 徹
松江工業高等専門学校情報工学科
-
岸田 悟
鳥取大学大学院 工学研究科
-
岸田 悟
鳥取大 工
-
岸田 悟
鳥大工
-
田中 彰浩
島取大学大学院工学研究科:鳥取大学工学部付属電子ディスプレイ研究センター(tedrec)
-
渡部 徹
松江工高専
-
岸田 悟
鳥取大 大学院工学研究科
-
渡部 徹
松江工業高等専門学校
関連論文
- ニューラルネットワークを用いた胸部X線画像の異常検出システム (ニューロコンピューティング)
- 声紋による個人認証システムの構築
- Cu-rich 融液から育成したBi-2212超伝導単結晶の光電子分光
- 多元高周波マグネトロンスパッタ法による高品質Bi_2Sr_2CaCu_2O_y超伝導薄膜の作製
- Heガスを用いたBi_2Sr_2Ca_Cu_nO_yスパッタ薄膜の組成制御
- 堆積部位に磁場を印加しつつ堆積した高周波マグネトロンスパッタ法によるBi_2Sr_2Ca_Cu_nO_y超伝導薄膜の作製
- 磁場印加型高周波マグネトロンスパッタ法によるBi系超伝導薄膜の作製
- Bi_2Sr_2CuO_y 単結晶基板上での Bi_2Sr_2Ca_Cu_nO_y スパッタ薄膜の成長
- 階層型ニューラルネットワークを用いた声紋による個人認証システムの構築
- 指紋と声紋によるハイブリッド認証システムの構築
- B-18-2 ニューラルネットワークを用いた声紋による個人認証システムの構築(B-18.バイオメトリクス・セキュリティ,一般講演)
- 音声による個人認証システムの構築
- GaドープZnO薄膜における不揮発性抵抗変化現象の成膜雰囲気依存性
- 大面積透明フレキシブルオールGaドープZnO抵抗変化メモリ(ReRAM)の作製と評価
- フォーミングを必要としない抵抗変化メモリ(ReRAM)の作製に関する研究
- 高周波マグネトロンスパッタ法によるBaTiO_3/Pt自立膜の作製と評価
- ニューラルネットワークを用いた高速フーリエ変換前処理法における指紋照合システムの構築
- 鳥取大学工学部電気電子工学科における教育改革と評価
- ニューラルネットワークを用いた指紋照合システムの性能の改善
- 指紋による個人認証へのニューラルネットワークの適用(音声・音響情報システム及び一般)
- ニューラルネットワークを用いた指紋照合システム
- 点字翻訳へのニューラルネットワークの適用
- ニューラルネットワークを用いた指紋照合システムの構築
- NiOを用いた抵抗変化型メモリ(ReRAM)の結晶性とメモリ特性
- BaTiO_3自立薄膜におけるクラック密度の低減と配向性の成長基板温度依存性
- ニューラルネットワークの化学分析への適用
- Ba_Rb_xBiO_yスパッタ薄膜の作製
- 種々の雰囲気におけるBi_2Sr_2CaCu_2O_y 単結晶表面の加熱処理効果
- 化学分析における自己組織化マップ(SOM)の応用
- 高周波マグネトロンスパッタ法によるBaRbBiO薄膜の作製
- 清浄化したBi系単結晶のX線光電子分光による状態分析
- BaRbBiO超伝導セラミックスのX線光電子分光測定
- ニューラルネットワークの定量分析への適用
- 分析データへのニューラルネットワークの適用
- 自己組織化マップ(SOM)の化学データ分析への応用
- 電子分光法による酸化シリコン測定時のダメージについて
- 顔画像の表情認識問題における階層型ニューラルネットワークの適用
- 高周波マグネトロンスパッタ法によるバイアス印加時のBi_2Sr_2Ca_Cu_nO_y超伝導薄膜の作製
- X線光電子分光法で評価したBi_2Sr_2CaCu_2O_y(Bi系)超伝導体の清浄化
- 点字変換システムへのニューラルネットワークの適用
- ニューラルネットワークによる分かち書き
- プローブ結合型マイクロストリップ共振器法によるBi-Sr-Ca-Cu-Oウィスカの表面抵抗測定
- プローブ結合型マイクロストリップ線路共振器法による線状試料の表面抵抗測定の一検討
- 最近の分析装置に望むこと
- ニューラルネットワークを用いた指紋照合システムの性能の改善
- 指紋による個人認証へのニューラルネットワークの適用(音声・音響情報システム及び一般)
- 指紋による個人認証へのニューラルネットワークの適用(音声・音響情報システム及び一般)
- He-O_2ガスを用いた高周波マグネトロンスパッタ法によるBi-Sr-Ca-Cu-O薄膜の作製
- ニューラルネットワークを用いた胸部X線画像の異常検出システム
- ニューラルネットワークを用いた声紋認証システムにおける入力層ユニット数の効果
- マニューシャ法により得られた指紋の特徴点とニューラルネットワーク用いた認証システムの構築
- 80K相Bi系バルク単結晶のXPS測定
- 不純物を添加したBi系超伝導単結晶のXPS測定
- 二次電子像によるC-AFM抵抗書き込み領域識別技術の適用によるReRAM動作機構の解明(シリコン関連材料の作製と評価)
- Bi-Sr-Ca-Cu酸化物超電導体へのPb酸化物添加効果
- Bi-Sr-Ca-Cu酸化物超伝導体表面への電極形成
- Bi系酸化物超伝導セラミックスへの電極形成
- 距離素子を用いた階層型ニューラルネットワーク
- Kohonenモデルにおける側方相互作用と近傍形状についての考察
- 汎化能力向上のための階層型ニューラルネットワークの条件付き付加項
- 反射高速電子線回析およびX線光電子分光法による Bi 系超伝導バルク単結晶上の CeO_2 薄膜の評価
- Bi系バルク単結晶表面上へのY_2O_3の成長
- 80K相Bi系超伝導単結晶上でのAu及びAg薄膜成長の比較
- Bi系酸化物高温超伝導バルク単結晶表面上への金属および絶縁薄膜の成長
- 階層型ニューラルネットワークの学習における付加項の探索
- 自己最適化ニューラルネットワークの応用
- 隠れユニット削減システムにおける相関と分散係数の最適化
- 隠れユニット自動削減ニューラルネットワークの構築
- 各種のファジィ推論法による模型自動車の走行制御シミュレーション
- 自己組織化マップを用いた多次元データの確率密度分布の可視化
- 汎化能力向上のための階層型ニューラルネットワークの条件付き付加項
- 自己組織化マップを用いた多次元データの確率密度分布の可視化
- 高用波マグネトロンスパッタ法による 80K 相 Bi 系超伝導薄膜の作製
- 巡回セールスマン問題へのS0M繰り返し法の応用
- Kohonen自己組織化特徴マップを用いた巡回セールスマン問題解法の改良
- 多都市, 例えば米国532都市TSP問題でのSOM法の最適化
- 原子間力顕微鏡を用いたReRAMフィラメントの物性解析 (集積回路)
- フォーミングフリー抵抗変化型メモリにおけるリセット電流と初期抵抗値の普遍的な関係
- コリメートスパッタ法で形成したTiN膜の特性
- 階層型ニューラルネットワークにおける隠れユニットの自動削減システムの検討
- 階層型ニューラルネットワークのボタン選定問題への適用
- 糸-ボタン問題における階層型ニューラルネットワークの汎化能力
- Bi系7K相高温超伝導単結晶のXPS測定
- 原子間力顕微鏡を用いた遷移金属酸化物におけるメモリ効果の機構解明 (表面分析研究会 第36回研究会 講演資料)
- 平坦な80K相Bi系酸化物超伝導薄膜の作製
- rfマグネトロンスパッタ法によるBi-Sr-Ca-Cu-O超伝導薄膜の作製
- 多元高周波マグネトロンスパッタ法によるBi_2Sr_2Ca_Cu_nO_y超伝導薄膜の作製
- 坩堝回転機構付垂直ブリッジマン法で育成したBi_2Sr_2CaCu_2O_y超伝導単結晶の光電子分光
- 二次電子像によるC-AFM抵抗書き込み領域識別技術の適用によるReRAM動作機構の解明
- メッキ法による酸化物高温超伝導体上への電極形成
- フォーミングフリー抵抗変化型メモリにおけるリセット電流と初期抵抗値の普遍的な関係
- 胸部X線画像の異常位置検出へのニューラルネットワークの適用
- マルチステップニューラルネットワークを用いた声紋認証システムの構築
- 二元系遷移金属酸化物ReRAMにおける各抵抗状態の相関関係の分析(不揮発性メモリ,メモリ(DRAM,SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)
- ペロブスカイト酸化物系ReRAMのスイッチングメカニズム(不揮発性メモリ,メモリ(DRAM,SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)
- 原子間力顕微鏡を用いたReRAMフィラメントの物性解析(不揮発性メモリ,メモリ(DRAM,SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)
- HfO_2-CB-RAMの基本メモリ特性(不揮発性メモリ,メモリ(DRAM,SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)
- ReRAMの物性評価と基本メモリ特性の制御(シリコン関連材料の作製と評価)
- 80K相Bi系酸化物超伝導単結晶と薄膜のXPSによる評価
- 表面分析の基礎知識 反射高速電子線回析法