Spectroscopic Measurements of the Production and the Transport of CH Radicals in a Methane Plasma Used for the CVD of a-C:H
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1990-10-20
著者
-
HARIMA Hiroshi
Department of Electronics and Information Science, Kyoto Institute of Technology
-
橘 邦英
愛媛大学大学院工学研究科電子情報工学専攻
-
Tachibana Kunihide
Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University
-
Mukai T
Nitride Semiconductor Research Laboratory Opto-electronics Products Division Nichia Corp.
-
Mukai Takashi
Department Of Research And Development; Nichia Chemical Industries Ltd.
-
Matsui Yasushi
Electronics Research Laboratory Corporate Research & Development Matsushita Electronics Corporat
-
Mukai Takashi
Nichia Corp. Tokushima Jpn
-
Tachibana Kunihide
Department Of Electronic Science And Engineering Kyoto University
-
MATSUI Yasuji
Central Research Laboratory, Mitsubishi Electric Corp.
-
MUKAI Takuya
Department of Electronics and Information Science, Kyoto Institute of Technology
-
YUUKI Akimasa
Central Research Laboratory, Mitsubishi Electric Corp.
-
Muto Y
The Institute For Materials Research Tohoku University
-
Mukai Takuya
Department Of Electronics And Information Science Faculty Of Engineering And Desigh Kyoto Institute
-
Yuuki A
Semiconductor Research Laboratory Mitsubishi Electric Corporation
-
Yuuki Akimasa
Product Development Laboratory Mitsubishi Electric Corporation
-
Yuuki Akimasa
Central Research Laboratory Mitsubishi Electric Corp.
-
Harima H
Department Of Electronics And Information Science Kyoto Institute Of Technology
-
Harima Hiroshi
Department Of Applied Physics Osaha University
-
Matsui Yasuji
Central Research Laboratory Mitsubishi Electric Corp.
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