Spectroscopic Study on a Discharge Plasma of MOCVD Source Gases for High-T_C Superconducting Films
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1990-10-20
著者
-
HARIMA Hiroshi
Department of Electronics and Information Science, Kyoto Institute of Technology
-
橘 邦英
愛媛大学大学院工学研究科電子情報工学専攻
-
Tachibana Kunihide
Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University
-
Ohnishi H
Institute For Chemical Research Kyoto University
-
Ohnishi Hiroshi
Manufacturing Engineering Center Mitsubishi Electric Corporation
-
Ohnishi Hiroshi
Manufacturing Development Laboratory Mitsubishi Electric Corp.
-
Tachibana Kunihide
Department Of Electronic Science And Engineering Kyoto University
-
Hanaoka Ken-ichi
Department of Electronics and Information Science, Kyoto Institute of Technology
-
KOBAYASHI Minoru
Manufacturing Development Laboratory, Mitsubishi Electric Corp.
-
HOSHINOUCHI Susumu
Manufacturing Development Laboratory, Mitsubishi Electric Corp.
-
Harima H
Department Of Electronics And Information Science Kyoto Institute Of Technology
-
Harima Hiroshi
Department Of Applied Physics Osaha University
-
Hanaoka Ken-ichi
Department Of Electronics And Information Science Kyoto Institute Of Technology
-
Hoshinouchi Susumu
Manufacturing Development Laboratory Mitsubishi Electric Co.
-
Kobayashi M
Tokai Univ. Kanagawa Jpn
-
KOBAYASHI Minoru
Manufacturing Development Laboratory, Mitsubishi Electric Co.
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