Measurement of Absolute Densities and Spatial Distributions of Si and SiH in an RF-Discharge Silane Plasma for the Chemical Vapor Deposition of a-Si:H Films
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1991-07-01
著者
-
HARIMA Hiroshi
Department of Electronics and Information Science, Kyoto Institute of Technology
-
橘 邦英
愛媛大学大学院工学研究科電子情報工学専攻
-
Tachibana Kunihide
Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University
-
Mukai T
Nitride Semiconductor Research Laboratory Opto-electronics Products Division Nichia Corp.
-
Mukai Takashi
Department Of Research And Development; Nichia Chemical Industries Ltd.
-
Mukai Takashi
Nichia Corp. Tokushima Jpn
-
Tachibana Kunihide
Department Of Electronic Science And Engineering Kyoto University
-
MUKAI Takuya
Department of Electronics and Information Science, Kyoto Institute of Technology
-
Mukai Takuya
Department Of Electronics And Information Science Faculty Of Engineering And Desigh Kyoto Institute
-
Harima H
Department Of Electronics And Information Science Kyoto Institute Of Technology
-
Harima Hiroshi
Department Of Applied Physics Osaha University
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