1. はじめに : 材料プロセス用フルオロカーボンプラズマに関する基礎研究の進展

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 社団法人プラズマ・核融合学会の論文
• 1999-07-25

著者

• 橘 邦英

  京都大学大学院 工学研究科 電子工学専攻

• 橘 邦英

  愛媛大学大学院工学研究科電子情報工学専攻

関連論文

• プローブ計測の基礎から応用まで
• AC型PDPセルに補助パルスを付加した維持放電の3次元シミュレーション
• AC型PDPセルに補助パルスを付加した維持放電の3次元シミュレーション(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
• マイクロプラズマを構成要素とする新規デバイス検討
• マイクロプラズマによる電磁波メタマテリアル
• 金属の周期的微細構造によるテラヘルツ波の伝搬制御(フォトニックNWシステム・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
• らせん状導体とプラズマの複合体による動的メタマテリアル現象(II)
• らせん状導体とプラズマの複合体による動的メタマテリアル現象(I)
• 水面上及び水中気泡内放電における化学反応機構
• 2. 伝搬電磁波に対するプラズマの空間不連続効果の実験的検証 : 空間周期構造がもたらす機能性(プラズマと電磁波の相互作用の新規応用 : 空間的・時間的デザインが拓く新機能)
• 金属等価なマイクロプラズマの周期構造を伝搬するマイクロ波の分散関係
• 金属等価なマイクロプラズマの周期構造を伝搬するマイクロ波の分散関係(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子光スイッチング,導波路解析,および一般)
• 金属等価なマイクロプラズマの周期構造を伝搬するマイクロ波の分散関係(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,および一般)
• マイクロプラズマによる損失性周期構造中の電磁波伝播特性
• 金属板の2次元穴アレイとプラズマの複合体の異常電磁波応答
• マイクロプラズマとその2次元周期構造内を伝搬する電磁波の解析
• マイクロプラズマデバイスの創製 (特集 マイクロプラズマ技術のナノ・バイオ材料工学への応用(Part1))
• プラズマアレイのメタマテリアル効果を用いた電磁波の動的複素制御
• AC型PDPセルに補助パルスを付加した維持放電の3次元シミュレーション
• クーロン結晶と強結合プラズマ
• ミ-散乱エリプソメトリ- -プラスマ中微粒子成長過程の新しいインプロセス計測法-
• 4p-W-1 微粒子プラズマに関する最近の話題
• プラズマCVDによるpoly-Si膜の低温形成過程のインプロセス偏光解析モニタリング
• 金属の周期的微細構造によるテラヘルツ波の伝搬制御
• 金属の周期的微細構造によるテラヘルツ波の伝搬制御(フォトニックNWシステム・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
• 金属の周期的微細構造によるテラヘルツ波の伝搬制御(フォトニックNWシステム・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
• 金属等価なマイクロプラズマの周期構造を伝搬するマイクロ波の分散関係(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子光スイッチング,導波路解析,および一般)
• ビデオプロジェクション用超高圧水銀ランプのアーク特性
• ビデオプロジェクション用超高圧水銀ランプのアーク特性
• ビデオプロジェクション用超高圧水銀ランプのアーク特性(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
• 22.HIDランププラズマの分光学的診断 : LIF法によるSc-Na系メタルハライドランプの添加物密度計測((2)光源・回路・放電現象(II) : HIDランプ関係・その他)
• HIDランププラズマの分光学的診断と計算機シミュレーション(2)メタルハライドランプの計算機シミュレーション(2)シミュレーションの方法と結果
• HIDランププラズマの分光学的診断と計算機シミュレーション(1)メタルハライドランプの計算機シミュレーション(1)モデリングの基礎
• 2-5 放電型ディスプレイにおける放電開始電圧の解析
• 10)カラー放電パネル(PDP)用セルの諸特性(II)パルス放電の1次元シミュレーション(〔情報入力研究会情報ディスプレイ研究会コンシューマエレクトロニクス研究会〕合同)
• カラー放電パネル(PDP)用セルの諸特性(II) : パルス放電の一次元シミュレーション
• 11)カラーPDP用He-Xe気体放電のシミュレーション(発光型ディスプレイ話題別研究会 : 情報ディスプレイ研究会)
• カラーPDP用He-Xe気体放電のシミュレーション : 発光型ディスプレイ話題別研究会 : 情報ディスプレイ(発光型ディスプレイ特集)
• ACPDPの書き込み放電遅れ時間対初期電子数の理論的考察 (電子ディスプレイ)
• ACPDPにおける壁電子の放出条件の理論的考察
• ACPDPにおける壁電子の放出条件の理論的考察(ディスプレイに関する技術全般,LCD(バックライトを含む),PDP,有機/無機EL,CRT,FED,VFD,LEDなどのディスプレイに関するデバイス,部品・材料及び応用技術,発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
• ACPDPにおける壁電子の放出条件の理論的考察 (情報ディスプレイ)
• 3)顕微分光法によるAC PDP放電セルの励起原子密度測定(〔情報センシング研究会 情報ディスプレイ研究会〕合同)(画像変換技術)
• 顕微分光法によるAC PDP放電セルの励起原子密度測定
• 顕微分光法によるAC PDP放電セルの励起原子密度測定
• 顕微分光法によるAC PDP放電セルの励起原子密度測定
• 顕微分光法によるPDP放電セルの動作特性解析
• 顕微分光法によるPDP放電セルの動作特性解析
• (5)顕微分光によるPDPセル内の励起原子密度の時間空間測定(1)(情報ディスプレイ研究会)
• 顕微分光法によるPDPセル内の励起原子密度の時間空間測定(1) : 情報ディスプレイ
• 4-9 カラー放電パネル(PDP)用セルの諸特性(III) : Xeの分子線発光の残光時間
• 9)カラー放電パネル(PDP)用セルの諸特性(I)(〔情報入力研究会情報ディスプレイ研究会コンシューマエレクトロニクス研究会〕合同)
• カラー放電パネル(PDP)用セルの諸特性(I) : パルス放電の分光測定
• ACPDPの書き込み放電遅れ時間対初期電子数の理論的考察 (情報ディスプレイ)
• HIDランププラズマの分光学的診断と計算機シミュレーション(4)メタルハライドランプのプラズマ診断(2)発光分光法
• HIDランププラズマの分光学的診断と計算機シミュレーション(3)メタルハライドランプのプラズマ診断(1)レーザ誘起蛍光法
• レーザ生成プラズマによる放電誘発機構の検討
• 新しい照明科学の創成に向けて(今日の課題)
• プラズマが創る反応場の過去・現在・未来
• ひかりとあかりの科学(今日の課題)
• プラズマ放電光源の原理と技術の将来展望(プラズマ理解への誘い)
• マイクロプラズマの基礎と展望
• DVS-BCBを用いた低誘電率膜堆積プラズマプロセスのその場FTIR気相診断(半導体Si及び関連材料・評価)
• マイクロプラズマが拓く新しい科学技術の世界
• リフレッシュ理科教室(関西支部)開催報告
• 3. マイクロプラズマの計測・解析(ミクロ反応場の生成と応用-マイクロプラズマ研究の現状と将来展望-)
• 1. はじめに(ミクロ反応場の生成と応用-マイクロプラズマ研究の現状と将来展望-)
• 29pXJ-3 高等教育における教育改善の取り組み : 物理・応用物理教育とJABEE制度(領域13シンポジウム : 物理関連3学共同シンポジウム(物理教育・科学教育の在り方を探る-教育改善の取組みを課題-)
• 4 マイクロプラズマの生成と応用の将来展望(シンポジウムV : プラズマ応用の課題)
• 反応性プラズマの物理と化学
• 2.プラズマディスプレイ用DC, AC放電型マイクロプラズマの現状と高効率化への課題(マイクロプラズマ : 基礎から応用まで)
• 1. はじめに(マイクロプラズマ : 基礎から応用まで)
• 電子付着質量分析法によるプラズマ中の高次ラジカル計測
• 1. はじめに : 材料プロセス用フルオロカーボンプラズマに関する基礎研究の進展
• Observations of Silicon Surfaces Exposed to Inductively Coupled CHF_3 and C_4F_8/H_2 Plasmas Using Fourier Transform Infrared Ellipsometry
• 薄膜トランジスタ用多結晶シリコンの低温堆積過程
• SiF_4/SiH_4/H_2混合ガスRF放電プラズマCVDによるポリシリコン堆積過程のその場分光エリプソメトリー
• He-Xe混合ガスにおける電子衝突電離係数および励起係数の測定と解析 (電子スウォ-ム)
• 1)放電セルの低電流領域における諸特性(その4) : VUV発光波形と考察(〔情報入力研究会 情報ディスプレイ研究会〕合同)
• 放電セルの低電流領域における諸特性(その4) : VUV発光波形と考察
• LIFによる炭化水素プラズマ内のラジカルの空間分布と輸送過程の計測 (レ-ザ-分光法によるプロセシングプラズマ計測特集号)
• Reaction Mechanism of Alkoxy Derivatives of Titanium Diketonates as Source Molecules in Liquid Source Metalorganic Chemical Vapor Deposition of (Ba,Sr)TiO_3 Films : A Study by In Situ Infrared Absorption Spectroscopy
• Effects of O_2 Gas on Reaction Mechanisms in the Chemical Vapor Deposition of (Ba, Sr)TiO_3 Thin Film
• Film Precursor Formation in Metalorganic Chemical Vapor Deposition of Barium Strontium Titanate Films : A Study by Microdischarge Optical Emission Spectroscopy
• Formation Mechanism of Strontium and Titaniuln Oxide Fillns by Metalorganlc Chemlcal Vapor Deposition: An Isotopic Labeling Study Using ^O_2 : Atoms, Molecules, and Chemical Physics
• Diagnosis of Oxidation Reactions in Metalorganic Chemical Vapor Deposition of (Ba,Sr)TiO_3 Films by In Situ Fourier Transform Infrared Spectroscopy
• Effects of Gas-Phase Thermal Decompositions of Chemical Vapor Deposition Source Molecules on the Deposition of(Ba, Sr)TiO_3 Films : A Study by In Situ Fourier Transform Infared Spectroscopy
• Gas Phase Reactions in the MOCVD of (Ba, Sr)TiO_3 Films : A Study by Microdischarge Optical Emission Spectroscopy
• Microdischarge Optical Emission Spectroscopy as a Novel Diagnostic Tool for Metalorganic Chemical Vapor Deposition of(Ba, Sr)TiO_3 Films
• Investigation of Discharge Phenomena in a Cell of Color Plasma Display Panel I. : One-Dimensional Model and Numerical Method
• Progress in GaN-Based Nanostructures for Blue Light Emitting Quantum Dot Lasers and Vertical Cavity Surface Emitting Lasers(Special Issue on Blue Laser Diodes and Related Devices/Technologies)
• Plasma Production and Wave Propagation in a Plasma Source Using Lower Hybrid Waves
• Lasing Emission from an In_Ga_N Vertical Cavity Surface Emitting Laser
• A Plasma Source Using Waves in a Lower Hybrid Frequency Range
• Measurement and Calculation of SiH_2 Radical Density in SiH_4 and Si_2H_6 Plasma for the Deposition of Hydrogenated Amorphous Silicon Thin Films
• In Situ Monitoring of Selective Copper Deposition Processes in a Metal-Organic Chemical Vapor Depositiorn Using Fourier-Transform Infrared Reflectiorn-Absorptiorn Spectroscopy
• Diffusion and Quenching of Metastable Xe Atoms in Mixtures of Xe and Rare Gases
• In Situ Measurement of Gas-Phase Reactions in Metal-Organic Chemical Vapor Deposition of Copper Films by Fourier Transform Infrared Spectroscopy
• Measurement of SiH_2 Densities in an RF-Discharge Silane Plasma Used in the Chemical Vapor Deporsition of Hydrogenated Amorphous Silicon Film
• An IR Study on the Stability of Y(DPM)_3, Ba(DPM)_2 and Cu(CPM)_2 for UV Irradiation

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク