In Situ Monitoring of Selective Copper Deposition Processes in a Metal-Organic Chemical Vapor Depositiorn Using Fourier-Transform Infrared Reflectiorn-Absorptiorn Spectroscopy
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1995-05-15
著者
-
橘 邦英
愛媛大学大学院工学研究科電子情報工学専攻
-
Tachibana Kunihide
Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University
-
Ohnishi H
Institute For Chemical Research Kyoto University
-
Ohnishi Hiroshi
Manufacturing Engineering Center Mitsubishi Electric Corporation
-
Ohnishi Hiroshi
Manufacturing Development Laboratory Mitsubishi Electric Corp.
-
Tachibana Kunihide
Department Of Electronic Science And Engineering Kyoto University
-
Hanaoka Ken-ichi
Department of Electronics and Information Science, Kyoto Institute of Technology
-
Hanaoka Ken-ichi
Department Of Electronics And Information Science Kyoto Institute Of Technology
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