Measurement and Calculation of SiH_2 Radical Density in SiH_4 and Si_2H_6 Plasma for the Deposition of Hydrogenated Amorphous Silicon Thin Films
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1995-08-15
著者
-
橘 邦英
愛媛大学大学院工学研究科電子情報工学専攻
-
Tachibana Kunihide
Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University
-
Matsui Yasushi
Electronics Research Laboratory Corporate Research & Development Matsushita Electronics Corporat
-
Tachibana Kunihide
Department Of Electronic Science And Engineering Kyoto University
-
SHIRAFUJI Tatsuru
Department of Electronics and Information Science, Kyoto Institute of Technology
-
MATSUI Yasuji
Central Research Laboratory, Mitsubishi Electric Corp.
-
Muto Y
The Institute For Materials Research Tohoku University
-
Matsui Yasuji
Central Research Laboratory Mitsubishi Electric Corp.
-
Shirafuji T
Kyoto Univ. Kyoto Jpn
-
Shirafuji Tatsuru
Department Of Electrical Engineering Kyoto University
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