Measurement of SiH_2 Densities in an RF-Discharge Silane Plasma Used in the Chemical Vapor Deporsition of Hydrogenated Amorphous Silicon Film

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 1992-08-15

著者

• 橘 邦英

  愛媛大学大学院工学研究科電子情報工学専攻

• Tachibana Kunihide

  Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University

• Matsui Yasushi

  Electronics Research Laboratory Corporate Research & Development Matsushita Electronics Corporat

• Tachibana Kunihide

  Department Of Electronic Science And Engineering Kyoto University

• SHIRAFUJI Tatsuru

  Department of Electronics and Information Science, Kyoto Institute of Technology

• MATSUI Yasuji

  Central Research Laboratory, Mitsubishi Electric Corp.

• Muto Y

  The Institute For Materials Research Tohoku University

• Matsui Yasuji

  Central Research Laboratory Mitsubishi Electric Corp.

• Shirafuji T

  Kyoto Univ. Kyoto Jpn

• Shirafuji Tatsuru

  Department Of Electrical Engineering Kyoto University

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