有機EL薄膜の全反射X線回折法とAFMによる構造評価
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概要
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有機ELの劣化原因の1つとしてアモルファス有機薄膜の結晶化が考えられているが、これはAFM観察により間接的に確認されているだけであった。今回、全反射X線回折計(TXRD)を用いることにより、有機EL薄膜の結晶化を初めて直接的に観測した。実験は薄膜試料にアニーリングを施しながら、TXRDで構造変化を追跡した。また、アニーリング処理温度による薄膜表面のモフォロジー変化をAFMにより観察した。TPD単層膜は100℃付近から結晶化を始めた。一方、Alq_3単層膜ではアニーリング処理によっても、アモルファス構造は変化しなかった。しかし、Alq_3/TPD2層膜では、TPDだけでなくAlq_3も結晶化することが観測された。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-07-26
著者
-
松重 和美
Dep. Of Electronic Sci. And Engineering Kyoto Univ. Katsura Nishikyo Kyoto 615-8510 Japaninnovative
-
松重 和美
京都大学工学研究科国際融合創造センターベンチャービジネスラボラトリー
-
堀内 俊寿
京都大学工学部電子物性工学科
-
林 好一
京都大学工学研究科電子物性工学教室
-
折田 賢児
京都大学工学研究科電子物性工学専攻
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