エネルギー分散型表面回折法による無機・有機薄膜の構造・配向解析
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概要
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表面及び超薄膜の構造・配向評価を目的として開発した新型X線システム「エネルギー分散型極低角入射X線分析装置」について紹介する。X線の全反射現象とエネルギー分散方式を利用した本シスデムでは、表面近傍の微量組成分析、面内・面外回折、反射率測定、表面遷移波の測定が可能である。今回、単結晶基板上に作製したGaAsPおよびポリシラン薄膜を表面回折法を用いて観測し、結晶場により誘起されるエピタキシャル結晶の構造・配向特性について議論した。
- 1999-09-21
著者
-
松重 和美
Dep. Of Electronic Sci. And Engineering Kyoto Univ. Katsura Nishikyo Kyoto 615-8510 Japaninnovative
-
石田 謙司
神戸大学 大学院工学研究応用化学専攻
-
堀内 俊寿
京都大学大学院工学研究科
-
松重 和美
京都大学大学院工学研究科
-
石田 謙司
神戸大学
-
石田 謙司
京都大学大学院工学研究科
-
Ishida Koichi
Optoelectronics Joint Research Laboratory:(present Address) Fundamental Research Laboratories Nec Co
-
Ishida K
Optoelectronics Joint Research Laboratory
-
Ishida K
Semiconductor System Engineering Center Toshiba Corporation
-
松重 和美
京都大学工学研究科電子物性工学専攻
-
Ishida Kohtaro
Department Of Physics Science University Of Tokyo
-
Ishida K
Yamagata Univ. Yamagata Jpn
-
石田 謙司
神戸大学工学部応用化学科:神戸大学大学院工学研究科応用化学専攻
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