C-3-42 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[IV] : ポリイミドWDMを用いたスケーラブルネットワーク(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2004-03-08
著者
-
松浦 徹
Nttフォトニクス研究所
-
松浦 徹
Nttアドバンステクノロジ(株) 材料開発&分析センタ
-
松浦 徹
日本電信電話(株)マイクロシステムインテグレーション研究所
-
都丸 暁
Nttアドバンステクノロジ株式会社
-
栗原 隆
Nttフォトニクス研究所
-
栗原 隆
Ntt光エレクトロニクス研究所
-
川上 直美
NTTアドバンステクノロジ株式会社
-
山本 二三男
NTTアドバンステクノロジ株式会社
-
丸野 透
NTTフォトニクス研究所
-
栗原 隆
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
-
丸野 透
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
-
川田 久美子
NTTアドバンステクノロジ株式会社ファイバインテグレーション事業部
-
菅井 栄一
NTTアドバンステクノロジ株式会社ファイバインテグレーション事業部
-
勝山 豊
大阪府立大学
-
菅井 栄一
Nttアドバンステクノロジ株式会社
-
川田 久美子
Nttアドバンステクノロジ株式会社
-
勝山 豊
大阪府立大学大学院工学研究科
-
松浦 徹
NTT基礎技術総合研究所
-
栗原 隆
Ntt 光エレクトロニクス研
-
栗原 隆
Ntt光エレ研
-
丸野 透
Ntt フォトニクス研
-
川上 直美
Nttアドバンステクノロジ
-
栗原 隆
日本電信電話株式会社 Nttフォトニクス研究所
-
川田 久美子
Nttアドバンステクノロジ
-
菅井 栄一
NTTアドバンステクノロジ(株)
関連論文
- 含フッ素ポリイミドによる光導波路フィルムの特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- C-3-56 全フッ素化ポリイミドを用いた3波WDMフィルタのモジュール化と温湿度特性(C-3. 光エレクトロニクス(ポリマー導波路), エレクトロニクス1)
- C-3-55 高屈折率差フッ素化ポリイミドフィルム光導波路の曲げ特性(C-3. 光エレクトロニクス(ポリマー導波路), エレクトロニクス1)
- C-3-60 全フッ素化ポリイミド光導波路の特性[III] : 3波WDMフィルタの温度および湿度特性(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- C-3-59 全フッ素化ポリイミド光導波路の特性[II] : シリコンならびにポリイミド基板を用いて作製されたフィルム導波路(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- C-3-58 全フッ素化ポリイミド光導波路の特性[I] : 光配線用フィルム光導波路の曲げ特性(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- 光通信デバイス用ポリマー光学材料(有機材料・一般)
- 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性(光波ネットワーク・光アクセスに向けた光波デバイス,光集積回路,一般)
- C-3-42 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[IV] : ポリイミドWDMを用いたスケーラブルネットワーク(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-41 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[III] : ポリイミド8ch-CWDMとADM(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-40 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[II] : 全フッ素化ポリイミドを用いた光導波路とCWDMへの適用(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-39 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[I] : 光学用ポリイミド基板と光導波路への適用(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
- KTN結晶導波路を用いた高効率位相変調器
- KTN結晶導波路を用いた高効率位相変調器(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- ポリイミド光モジュールの信頼性(光部品の実装,信頼性)
- ファイバカプラ : 技術の動向(光ファイバ・部品技術)(光回路実装技術の現状と今後 : ブロードバンド時代を迎えて)
- C-3-153 ポリイミド4ch-CWDMモジュールの信頼性
- C-3-94 UV硬化型エポキシ樹脂を用いたポリマ光導波路 (4) : 光インタコネクションへの適用
- 光学用ポリイミド基板を用いた光導波路の作製と特性(光機能有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- ポリイミドを用いた損失等化用薄膜の作製と評価
- C-3-85 ポリイミド4ch CWDMモジュールの特性
- C-3-112 ポリマ導波路型光送受信モジュールの耐環境性
- シリコーンポリマ導波路型光送受信モジュール (MES2000 第10回マイクロエレクトロニクスシンポジウム)
- C-3-82 二軸回転可能な狭ピッチMEMSミラーアレイ(3) : 電気干渉低減構造のモノリシック化(光スイッチ,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- 波長選択スイッチ(WSS)用MEMSミラーアレイモジュール(光部品の実装・信頼性,一般)
- 波長選択スイッチ(WSS)用MEMSミラーアレイモジュール(光部品の実装・信頼性,一般)
- 波長選択スイッチ(WSS)用MEMSミラーアレイモジュール(光部品の実装・信頼性,一般)
- C-3-62 空間光学系MEMSスイッチの二軸同調制御法(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- ポリイミド光モジュールの信頼性(光部品の実装,信頼性)
- ポリイミド光モジュールの信頼性(光部品の実装,信頼性)
- 高分子の特徴を活かした光導波路の展開
- 4)EO/パッシブ混載型高分子光導波路(情報ディスプレイ研究会)
- EO/パッシブ混載型高分子光導波路 : 情報ディスプレイ
- EO/パッシブ混載型高分子光導波路
- EO高分子による縦型方向性結合器
- 平坦なSi基板上に作製したPLCによる光送受信モジュール
- ポリイミド光学材料の複屈折と光弾性係数
- 波長選択スイッチにおける電気干渉低減MEMSミラーアレイの作製(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 波長選択スイッチにおける電気干渉低減MEMSミラーアレイの作製(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 波長選択スイッチにおける電気干渉低減MEMSミラーアレイの作製(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 波長選択スイッチにおける電気干渉低減MEMSミラーアレイの作製(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- C-3-152 1.55μm用ポリイミド光学材料を用いた光導波路
- ポリイミドを用いた損失等化用薄膜の作製と評価
- ポリイミドを用いた損失等化用薄膜の作製と評価
- ポリイミドを用いた損失等化用薄膜の作製と評価
- ポリイミド蒸着重合膜
- ポリイミド光導波路を用いた波長合分波器
- フッ素化ポリイミドを用いた光通信システム用光部品の研究動向
- ポリイミド光導波路-ファイバ結合用紫外線硬化型接着剤
- ポリイミド光通信用部品
- 光通信用ポリイミド
- フッ素化ポリイミド光導波路を用いたY-分岐型TOスイッチ
- フッ素化ポリイミド光導波路で作製した基本光回路の特性
- フッ素化ポリイミド光導波路で作製した基本光回路の特性
- フッ素化ポリイミド光導波路で作製した基本光回路の特性
- フッ素化ポリイミド光導波路で作製した基本光回路の特性
- EMD2000-41 / CPM2000-56 / OPE2000-53 / LQE2000-47 Siテラス省略化PLCプラットフォームの検討と8ch多波長受信モージュールへの適用
- EMD2000-41 / CPM2000-56 / OPE2000-53 / LQE2000-47 Siテラス省略化PLCプラットフォームの検討と8ch多波長受信モジュールへの適用
- EMD2000-41 / CPM2000-56 / OPE2000-53 / LQE2000-47 Siテラス省略化PLCプラットフォームの検討と8ch多波長受信モジュールへの適用
- EMD2000-41 / CPM2000-56 / OPE2000-53 / LQE2000-47 Siテラス省略化PLCプラットフォームの検討と8ch多波長受信モジュールへの適用
- KTN結晶導波路を用いた高効率位相変調器(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- KTN結晶導波路を用いた高効率位相変調器(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- KTN結晶導波路を用いた高効率位相変調器(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- C-3-28 KTN 結晶導波路を用いた低電圧駆動 2 X 2 電気光学スイッチ
- 45゜マイクロミラー付きポリマ光導波路フィルムの作製
- C-3-78 MEMSミラーを用いた1x43ポート波長選択スイッチ(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-81 動的クロストークを低減したMEMS型波長選択スイッチ(光スイッチ,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-18 ニ軸回転可能な狭ピッチMEMSミラーアレイ(2) : 隣接チャネル間電気干渉の低減(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-19 WSS用MEMSミラーの曲線制御法によるRabbit Earの抑制(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- 含フッ素ポリイミドによる光導波路フィルムの特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- 含フッ素ポリイミドによる光導波路フィルムの特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- ポリマー光導波路の形成とそのデバイス特性
- 光学用ポリイミド基板を用いた光導波路の作製と特性(光機能有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- BP-4-5 MEMSミラー型波長選択光スイッチ技術(BP-4.フォトニックネットワークの将来技術と展望,パネルセッション,ソサイエティ企画)
- SC-3-7 光導波路形成用紫外線硬化アクリル樹脂
- 有機非線形光学結晶AANPを用いた光サンプリング光波形測定法の高SNR化
- プラスチックプラットフォームによるポリマー導波路フィルムへのファイバ実装
- 全フッ素化ポリイミドを用いた光導波路の作製と特性(光機能有機材料・デバイス, 光非線形現象, 一般)
- 全フッ素化ポリイミドを用いた光導波路の作製と特性(光機能有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- C-3-61 波長選択スイッチのミラー制御による温度依存損失の抑圧(光スイッチ・光変調器(2),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- 原子間力顕微鏡(AFM)を用いた平面導波路型光路垂直変換デバイスのミラー表面評価
- 短距離光インタコネクション用ポリマ導波路フィルムの開発
- ふっ素化ポリイミドによる形状異方性マイクロ物体の作製と光圧回転特性
- プラスチック光ファイバ用接着剤の特性評価
- シングルモードポリイミド光導波路
- フッ素化ポリイミド光導波路を用いた方向性結合器の温度特性
- 光導波路用ポリイミドとその光部品への適用 (MES'97(第7回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集))
- MEMSミラーを用いた波長選択スイッチの特性制御(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- MEMSミラーを用いた波長選択スイッチの特性制御(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- MEMSミラーを用いた波長選択スイッチの特性制御(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- MEMSミラーを用いた波長選択スイッチの特性制御(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 隣接チャネル間電気干渉を抑制可能な波長選択スイッチ(WSS)用MEMSミラーアレイ
- 隣接チャネル間電気干渉を抑制可能な波長選択スイッチ(WSS)用MEMSミラーアレイ(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
- 隣接チャネル間電気干渉を抑制可能な波長選択スイッチ(WSS)用MEMSミラーアレイ(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
- 隣接チャネル間電気干渉を抑制可能な波長選択スイッチ(WSS)用MEMSミラーアレイ(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
- 隣接チャネル間電気干渉を抑制可能な波長選択スイッチ(WSS)用MEMSミラーアレイ(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
- C-5-10 MEMS型空間光学系光スイッチの耐振動信頼性に関する検討(C-5.機構デバイス)
- 隣接チャネル間電気干渉を抑制可能な波長選択スイッチ(WSS)用MEMSミラーアレイ
- 隣接チャネル問電気干渉を抑制可能な波長選択スイッチ(WSS)用MEMSミラーアレイ
- 隣接チャネル問電気干渉を抑制可能な波長選択スイッチ(WSS)用MEMSミラーアレイ