C-3-39 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[I] : 光学用ポリイミド基板と光導波路への適用(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2004-03-08
著者
-
松浦 徹
Nttフォトニクス研究所
-
松浦 徹
Nttアドバンステクノロジ(株) 材料開発&分析センタ
-
松浦 徹
日本電信電話(株)マイクロシステムインテグレーション研究所
-
栗原 隆
Nttフォトニクス研究所
-
栗原 隆
Ntt光エレクトロニクス研究所
-
山本 二三男
NTTアドバンステクノロジ株式会社
-
丸野 透
NTTフォトニクス研究所
-
栗原 隆
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
-
丸野 透
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
-
横山 博一
東レ・デュポン株式会社
-
杉本 範己
東レ・デュポン株式会社
-
手柴 敏博
東レ・デュポン株式会社
-
川田 久美子
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
-
川田 久美子
Nttアドバンステクノロジ株式会社
-
松浦 徹
NTT基礎技術総合研究所
-
栗原 隆
Ntt 光エレクトロニクス研
-
栗原 隆
Ntt光エレ研
-
丸野 透
Ntt フォトニクス研
-
栗原 隆
日本電信電話株式会社 Nttフォトニクス研究所
関連論文
- 含フッ素ポリイミドによる光導波路フィルムの特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- C-3-56 全フッ素化ポリイミドを用いた3波WDMフィルタのモジュール化と温湿度特性(C-3. 光エレクトロニクス(ポリマー導波路), エレクトロニクス1)
- C-3-55 高屈折率差フッ素化ポリイミドフィルム光導波路の曲げ特性(C-3. 光エレクトロニクス(ポリマー導波路), エレクトロニクス1)
- C-3-60 全フッ素化ポリイミド光導波路の特性[III] : 3波WDMフィルタの温度および湿度特性(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- C-3-59 全フッ素化ポリイミド光導波路の特性[II] : シリコンならびにポリイミド基板を用いて作製されたフィルム導波路(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- C-3-58 全フッ素化ポリイミド光導波路の特性[I] : 光配線用フィルム光導波路の曲げ特性(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- 積層高分子導波路ホログラムROM
- 光通信デバイス用ポリマー光学材料(有機材料・一般)
- 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性(光波ネットワーク・光アクセスに向けた光波デバイス,光集積回路,一般)
- B-10-84 ファブリペロー電気光学変調器を用いた高安定な40GHzパルス列の発生(B-10. 光通信システムB(光通信))
- C-3-42 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[IV] : ポリイミドWDMを用いたスケーラブルネットワーク(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-41 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[III] : ポリイミド8ch-CWDMとADM(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-40 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[II] : 全フッ素化ポリイミドを用いた光導波路とCWDMへの適用(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-39 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[I] : 光学用ポリイミド基板と光導波路への適用(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
- KTN結晶導波路を用いた高効率位相変調器
- KTN結晶導波路を用いた高効率位相変調器(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- ポリイミド光モジュールの信頼性(光部品の実装,信頼性)
- 光学用ポリイミド基板を用いた光導波路の作製と特性(光機能有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- 有機ホウ素ポリマーを用いた二光子吸収型光メモリ装置
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
- 有機ホウ素ポリマーの二光子吸収結合断裂
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 新規π電子系有機化合物の二光子吸収特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- ポリイミドを用いた損失等化用薄膜の作製と評価
- C-3-112 ポリマ導波路型光送受信モジュールの耐環境性
- EMD2000-48 / CPM2000-63 / OPE2000-60 / LQE2000-54 高分子光導波路を用いたAWG型波長可変フィルタの高速・広帯域動作
- シリコーン熱光学波長可変フィルター(3) : 三角形状薄膜ヒーター加熱による応答速度の向上および選択波長の広帯域化
- C-3-32 テルライトガラスを用いた高非線形性ホーリファイバ
- テルライトガラスを用いた高非線形性ホーリファイバの設計(次世代光ファイバ,機能性光ファイバ,フォトニック結晶ファイバ,光計測,光伝搬,光信号処理,一般)
- テルライトガラスを用いた高非線形性ホーリファイバの設計(次世代光ファイバ,機能性光ファイバ,フォトニック結晶ファイバ,光計測,光伝搬,光信号処理,一般)
- C-3-82 二軸回転可能な狭ピッチMEMSミラーアレイ(3) : 電気干渉低減構造のモノリシック化(光スイッチ,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- 波長選択スイッチ(WSS)用MEMSミラーアレイモジュール(光部品の実装・信頼性,一般)
- 波長選択スイッチ(WSS)用MEMSミラーアレイモジュール(光部品の実装・信頼性,一般)
- 波長選択スイッチ(WSS)用MEMSミラーアレイモジュール(光部品の実装・信頼性,一般)
- C-3-62 空間光学系MEMSスイッチの二軸同調制御法(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- ポリイミド光モジュールの信頼性(光部品の実装,信頼性)
- ポリイミド光モジュールの信頼性(光部品の実装,信頼性)
- ポリイミド光学材料の複屈折と光弾性係数
- 波長選択スイッチにおける電気干渉低減MEMSミラーアレイの作製(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 波長選択スイッチにおける電気干渉低減MEMSミラーアレイの作製(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 波長選択スイッチにおける電気干渉低減MEMSミラーアレイの作製(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 波長選択スイッチにおける電気干渉低減MEMSミラーアレイの作製(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- C-3-152 1.55μm用ポリイミド光学材料を用いた光導波路
- ポリイミドを用いた損失等化用薄膜の作製と評価
- ポリイミドを用いた損失等化用薄膜の作製と評価
- ポリイミドを用いた損失等化用薄膜の作製と評価
- ポリイミド蒸着重合膜
- ポリイミド光導波路を用いた波長合分波器
- フッ素化ポリイミドを用いた光通信システム用光部品の研究動向
- ポリイミド光導波路-ファイバ結合用紫外線硬化型接着剤
- ポリイミド光通信用部品
- 光通信用ポリイミド
- フッ素化ポリイミド光導波路を用いたY-分岐型TOスイッチ
- フッ素化ポリイミド光導波路で作製した基本光回路の特性
- フッ素化ポリイミド光導波路で作製した基本光回路の特性
- フッ素化ポリイミド光導波路で作製した基本光回路の特性
- フッ素化ポリイミド光導波路で作製した基本光回路の特性
- KTN結晶導波路を用いた高効率位相変調器(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- KTN結晶導波路を用いた高効率位相変調器(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- KTN結晶導波路を用いた高効率位相変調器(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- C-3-28 KTN 結晶導波路を用いた低電圧駆動 2 X 2 電気光学スイッチ
- C-3-78 MEMSミラーを用いた1x43ポート波長選択スイッチ(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-81 動的クロストークを低減したMEMS型波長選択スイッチ(光スイッチ,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-18 ニ軸回転可能な狭ピッチMEMSミラーアレイ(2) : 隣接チャネル間電気干渉の低減(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-19 WSS用MEMSミラーの曲線制御法によるRabbit Earの抑制(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- 含フッ素ポリイミドによる光導波路フィルムの特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- 含フッ素ポリイミドによる光導波路フィルムの特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- ポリマー光導波路の形成とそのデバイス特性
- 光学用ポリイミド基板を用いた光導波路の作製と特性(光機能有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- BP-4-5 MEMSミラー型波長選択光スイッチ技術(BP-4.フォトニックネットワークの将来技術と展望,パネルセッション,ソサイエティ企画)
- 全フッ素化ポリイミドを用いた光導波路の作製と特性(光機能有機材料・デバイス, 光非線形現象, 一般)
- 全フッ素化ポリイミドを用いた光導波路の作製と特性(光機能有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- C-3-61 波長選択スイッチのミラー制御による温度依存損失の抑圧(光スイッチ・光変調器(2),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- ふっ素化ポリイミドによる形状異方性マイクロ物体の作製と光圧回転特性
- プラスチック光ファイバ用接着剤の特性評価
- シングルモードポリイミド光導波路
- フッ素化ポリイミド光導波路を用いた方向性結合器の温度特性
- 光導波路用ポリイミドとその光部品への適用 (MES'97(第7回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集))
- MEMSミラーを用いた波長選択スイッチの特性制御(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- MEMSミラーを用いた波長選択スイッチの特性制御(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- MEMSミラーを用いた波長選択スイッチの特性制御(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- MEMSミラーを用いた波長選択スイッチの特性制御(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 隣接チャネル間電気干渉を抑制可能な波長選択スイッチ(WSS)用MEMSミラーアレイ
- 隣接チャネル間電気干渉を抑制可能な波長選択スイッチ(WSS)用MEMSミラーアレイ(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
- 隣接チャネル間電気干渉を抑制可能な波長選択スイッチ(WSS)用MEMSミラーアレイ(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
- 隣接チャネル間電気干渉を抑制可能な波長選択スイッチ(WSS)用MEMSミラーアレイ(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
- 隣接チャネル間電気干渉を抑制可能な波長選択スイッチ(WSS)用MEMSミラーアレイ(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
- C-5-10 MEMS型空間光学系光スイッチの耐振動信頼性に関する検討(C-5.機構デバイス)
- 隣接チャネル間電気干渉を抑制可能な波長選択スイッチ(WSS)用MEMSミラーアレイ
- 隣接チャネル問電気干渉を抑制可能な波長選択スイッチ(WSS)用MEMSミラーアレイ
- 隣接チャネル問電気干渉を抑制可能な波長選択スイッチ(WSS)用MEMSミラーアレイ