光学用ポリイミド基板を用いた光導波路の作製と特性(光機能有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
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概要
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高分子光導波路への適用を目的として、ポリイミド基板を作製した。基板の熱膨張率は約10^<-5>/℃と、高分子光導波路材料とほぼ等しく、導波路への応力が低減される。この基板上に作製した全フッ素化ポリイミド光導波路の導波路複屈折は10^<-4>程度、PDLは0.01dB/cm以下と、共に優れた特性を示した。さらに光導波路を基板から剥離し、フィルム光導波路を作製した。フィルム光導波路の特性は基板上の光導波路と同等であった。基板上光導波路の部品応用として3波のWDMフィルタを作製し、挿入損失1.3dB以下、PDL0.2dB以下を達成した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2004-10-01
著者
-
松浦 徹
Nttフォトニクス研究所
-
松浦 徹
Nttアドバンステクノロジ(株) 材料開発&分析センタ
-
松浦 徹
日本電信電話(株)マイクロシステムインテグレーション研究所
-
川上 直美
NTTアドバンステクノロジ株式会社
-
池田 元昭
NTTアドバンステクノロジ株式会社
-
松浦 徹
NTT基礎技術総合研究所
-
川上 直美
Nttアドバンステクノロジ
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