C-3-59 全フッ素化ポリイミド光導波路の特性[II] : シリコンならびにポリイミド基板を用いて作製されたフィルム導波路(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2005-03-07
著者
-
松浦 徹
Nttフォトニクス研究所
-
松浦 徹
Nttアドバンステクノロジ(株) 材料開発&分析センタ
-
栗原 隆
Nttフォトニクス研究所
-
栗原 隆
Ntt光エレクトロニクス研究所
-
池田 元昭
NTTアドバンステクノロジ株式会社
-
工藤 あや子
NTTアドバンステクノロジ株式会社
-
山本 二三男
NTTアドバンステクノロジ株式会社
-
松浦 徹
NTT基礎技術総合研究所
-
栗原 隆
Ntt 光エレクトロニクス研
-
栗原 隆
Ntt光エレ研
-
栗原 隆
日本電信電話株式会社 Nttフォトニクス研究所
-
工藤 あや子
Nttアドバンステクノロジ
関連論文
- 含フッ素ポリイミドによる光導波路フィルムの特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- C-3-56 全フッ素化ポリイミドを用いた3波WDMフィルタのモジュール化と温湿度特性(C-3. 光エレクトロニクス(ポリマー導波路), エレクトロニクス1)
- C-3-55 高屈折率差フッ素化ポリイミドフィルム光導波路の曲げ特性(C-3. 光エレクトロニクス(ポリマー導波路), エレクトロニクス1)
- C-3-60 全フッ素化ポリイミド光導波路の特性[III] : 3波WDMフィルタの温度および湿度特性(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- C-3-59 全フッ素化ポリイミド光導波路の特性[II] : シリコンならびにポリイミド基板を用いて作製されたフィルム導波路(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- C-3-58 全フッ素化ポリイミド光導波路の特性[I] : 光配線用フィルム光導波路の曲げ特性(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- 積層高分子導波路ホログラムROM
- 光通信デバイス用ポリマー光学材料(有機材料・一般)
- 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性(光波ネットワーク・光アクセスに向けた光波デバイス,光集積回路,一般)
- B-10-84 ファブリペロー電気光学変調器を用いた高安定な40GHzパルス列の発生(B-10. 光通信システムB(光通信))
- C-3-42 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[IV] : ポリイミドWDMを用いたスケーラブルネットワーク(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-41 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[III] : ポリイミド8ch-CWDMとADM(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-40 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[II] : 全フッ素化ポリイミドを用いた光導波路とCWDMへの適用(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-39 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[I] : 光学用ポリイミド基板と光導波路への適用(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
- KTN結晶導波路を用いた高効率位相変調器
- KTN結晶導波路を用いた高効率位相変調器(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- ポリイミド光モジュールの信頼性(光部品の実装,信頼性)
- 光学用ポリイミド基板を用いた光導波路の作製と特性(光機能有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- 有機ホウ素ポリマーを用いた二光子吸収型光メモリ装置
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
- 有機ホウ素ポリマーの二光子吸収結合断裂
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 新規π電子系有機化合物の二光子吸収特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- ポリイミドを用いた損失等化用薄膜の作製と評価
- C-3-112 ポリマ導波路型光送受信モジュールの耐環境性
- EMD2000-48 / CPM2000-63 / OPE2000-60 / LQE2000-54 高分子光導波路を用いたAWG型波長可変フィルタの高速・広帯域動作
- シリコーン熱光学波長可変フィルター(3) : 三角形状薄膜ヒーター加熱による応答速度の向上および選択波長の広帯域化
- C-3-32 テルライトガラスを用いた高非線形性ホーリファイバ
- テルライトガラスを用いた高非線形性ホーリファイバの設計(次世代光ファイバ,機能性光ファイバ,フォトニック結晶ファイバ,光計測,光伝搬,光信号処理,一般)
- テルライトガラスを用いた高非線形性ホーリファイバの設計(次世代光ファイバ,機能性光ファイバ,フォトニック結晶ファイバ,光計測,光伝搬,光信号処理,一般)
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- KTN結晶導波路を用いた高速光スイッチ(光部品・電子デバイス実装技術, 一般)
- ポリイミド光モジュールの信頼性(光部品の実装,信頼性)
- ポリイミド光モジュールの信頼性(光部品の実装,信頼性)
- ポリイミド光学材料の複屈折と光弾性係数
- C-3-152 1.55μm用ポリイミド光学材料を用いた光導波路
- ポリイミドを用いた損失等化用薄膜の作製と評価
- ポリイミドを用いた損失等化用薄膜の作製と評価
- ポリイミドを用いた損失等化用薄膜の作製と評価
- ポリイミド蒸着重合膜
- ポリイミド光導波路を用いた波長合分波器
- フッ素化ポリイミドを用いた光通信システム用光部品の研究動向
- ポリイミド光導波路-ファイバ結合用紫外線硬化型接着剤
- ポリイミド光通信用部品
- 光通信用ポリイミド
- フッ素化ポリイミド光導波路を用いたY-分岐型TOスイッチ
- フッ素化ポリイミド光導波路で作製した基本光回路の特性
- フッ素化ポリイミド光導波路で作製した基本光回路の特性
- フッ素化ポリイミド光導波路で作製した基本光回路の特性
- フッ素化ポリイミド光導波路で作製した基本光回路の特性
- 新規π電子系有機化合物の二光子吸収特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- 新規π電子系有機化合物の二光子吸収特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- 導波路ホログラムメモリにおける多層再生特性
- 導波路ホログラムメモリにおける多層再生特性 (光記録・情報記録材料,一般)
- 導波路ホログラムメモリにおける多層再生特性 (光記録・情報記録材料,一般)
- ラマンソリトン効果を用いた全光型光信号処理による非同期でのエラーフリー伝送(センサ,一般)
- C-4-27 ラマンソリトン効果を用いたプログラマブル多波長光源
- 光ファイバ中でのうマンソリトン効果(自己周波数シフト)を用いた光信号処理デバイスの開発
- KTN結晶導波路を用いた高効率位相変調器(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- KTN結晶導波路を用いた高効率位相変調器(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- KTN結晶導波路を用いた高効率位相変調器(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- C-3-90 KTN 結晶スラブ導波路の電気光学効果
- C-3-28 KTN 結晶導波路を用いた低電圧駆動 2 X 2 電気光学スイッチ
- KTN結晶導波路を用いた高速光スイッチ(光部品・電子デバイス実装技術, 一般)
- KTN結晶導波路を用いた高速光スイッチ(光部品・電子デバイス実装技術, 一般)
- KTN結晶導波路を用いた高速光スイッチ(光部品・電子デバイス実装技術, 一般)
- SC-10-5 ポリマ導波路を用いた波長可変フィルター・光路選択スイッチ
- シリコーン樹脂を用いた熱光学波長可変フィルターモジュールの光学特性
- シリコーン樹脂を用いた熱光学波長可変フィルターモジュールの光学特性
- C-3-120 シリコーン熱光学波長可変フィルター(2) : フィルターモジュールの特性
- A-6-8 積層導波路ホログラムメモリ用の2/16記録符号
- 含フッ素ポリイミドによる光導波路フィルムの特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- 含フッ素ポリイミドによる光導波路フィルムの特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- ポリマー光導波路の形成とそのデバイス特性
- 光学用ポリイミド基板を用いた光導波路の作製と特性(光機能有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- 全フッ素化ポリイミドを用いた光導波路の作製と特性(光機能有機材料・デバイス, 光非線形現象, 一般)
- 全フッ素化ポリイミドを用いた光導波路の作製と特性(光機能有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- C-13-3 三角形状位相シフタを用いたポリマー熱光学波長可変フィルタ動作の低消費電力化および広帯域化
- 超100Gbit/s級OEICに向けた光インターフェースとしてのチップ上光配線構造
- 超100Gbit/s級OEICに向けた光インタフェースとしてのチップ上光配線構造
- 有機光導波路デバイス
- EMD2000-48 / CPM2000-63 / OPE2000-60 / LQE2000-54 高分子光導波路を用いたAWG型波長可変フィルタの高速・広帯域動作
- EMD2000-48 / CPM2000-63 / OPE2000-60 / LQE2000-54 高分子光導波路を用いたAWG型波長可変フィルタの高速・広帯域動作
- EMD2000-48 / CPM2000-63 / OPE2000-60 / LQE2000-54 高分子光導波路を用いたAWG型波長可変フィルタの高速・広帯域動作
- 高消光比が得られる熱光学可変光アッテネータ
- プラスチック光ファイバ用接着剤の特性評価
- シングルモードポリイミド光導波路
- フッ素化ポリイミド光導波路を用いた方向性結合器の温度特性
- 光導波路用ポリイミドとその光部品への適用 (MES'97(第7回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集))