オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
三次元多層光メモリの実現を目的として、二段階の光吸収によるメモリ材料について調べた。二段階光吸収材料としてオリゴチオフェン、エネルギを受容して反応する材料として芳香族アジドを選び、これらについて、密度汎関数理論計算や燐光と三重項遷移の測定から、励起エネルギや反応性の予測を行った。そして薄膜媒体を作製し、ホログラム回折効率の測定を行い、従来のビアセチル材料よりも二桁以上効率が良い事がわかった。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2006-06-23
著者
-
佐々木 豊
三菱化学科学技術研究センター
-
平林 克彦
NTTフォトニクス研究所
-
神原 浩久
NTTフォトニクス研究所
-
栗原 隆
九州先端科学技術研究所
-
栗原 隆
Nttフォトニクス研究所
-
森 裕平
NTTフォトニクス研究所
-
清水 正毅
京都大学大学院工学研究科材料化学専攻
-
檜山 爲次郎
京都大学大学院工学研究科材料化学専攻
-
前田 修一
三菱化学科学技術研究センター
-
安達 昌文
三菱化学科学技術研究センター
-
檜山 爲次郎
京大院工
-
桧山 爲次郎
京都大学大学院工学研究科・材料化学専攻
-
平林 克彦
Nttフォトニクス総合研究所
-
神原 浩久
Ntt フォトニクス研
-
平林 克彦
Ntt フォトニクス研
-
平林 克彦
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
-
檜山 爲次郎
京都大学大学院工学研究科・材料化学専攻
関連論文
- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性を利用した積層導波路型光メモリ(光記録技術,一般)
- 有機ホウ素ポリマーの二光子吸収型多層光メモリへの応用
- 時間分解赤外分光法による酸化チタン/吸着色素間の電子移動の追跡
- 含フッ素ポリイミドによる光導波路フィルムの特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- C-3-56 全フッ素化ポリイミドを用いた3波WDMフィルタのモジュール化と温湿度特性(C-3. 光エレクトロニクス(ポリマー導波路), エレクトロニクス1)
- C-3-55 高屈折率差フッ素化ポリイミドフィルム光導波路の曲げ特性(C-3. 光エレクトロニクス(ポリマー導波路), エレクトロニクス1)
- C-3-60 全フッ素化ポリイミド光導波路の特性[III] : 3波WDMフィルタの温度および湿度特性(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- C-3-59 全フッ素化ポリイミド光導波路の特性[II] : シリコンならびにポリイミド基板を用いて作製されたフィルム導波路(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- C-3-58 全フッ素化ポリイミド光導波路の特性[I] : 光配線用フィルム光導波路の曲げ特性(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- 積層高分子導波路ホログラムROM
- 光通信デバイス用ポリマー光学材料(有機材料・一般)
- 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性(光波ネットワーク・光アクセスに向けた光波デバイス,光集積回路,一般)
- B-10-84 ファブリペロー電気光学変調器を用いた高安定な40GHzパルス列の発生(B-10. 光通信システムB(光通信))
- C-3-42 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[IV] : ポリイミドWDMを用いたスケーラブルネットワーク(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-41 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[III] : ポリイミド8ch-CWDMとADM(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-40 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[II] : 全フッ素化ポリイミドを用いた光導波路とCWDMへの適用(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-39 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[I] : 光学用ポリイミド基板と光導波路への適用(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
- KTN結晶導波路を用いた高効率位相変調器
- KTN結晶導波路を用いた高効率位相変調器(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- 有機ホウ素ポリマーを用いた二光子吸収型光メモリ装置
- 二光子吸収特性を利用した有機ホウ素化合物の導波路構造型多層光メモリへの応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
- 有機ホウ素ポリマーの二光子吸収結合断裂
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 新規π電子系有機化合物の二光子吸収特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- 低分子3次非線形光学材料の特性
- C-3-112 ポリマ導波路型光送受信モジュールの耐環境性
- EMD2000-48 / CPM2000-63 / OPE2000-60 / LQE2000-54 高分子光導波路を用いたAWG型波長可変フィルタの高速・広帯域動作
- シリコーン熱光学波長可変フィルター(3) : 三角形状薄膜ヒーター加熱による応答速度の向上および選択波長の広帯域化
- C-3-23 クラッドフィルムを用いて作製したポリマスタンパ導波路(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- CS-6-7 フレキシブルスタンパ法で作製したピッチ変換ポリマ導波路(CS-6. 光インタコネクション技術の最新動向,シンポジウムセッション)
- 非平面型金属フタロシアニン薄膜の吸収スペクトルと三次非線形光学特性
- 液晶を用いた光通信用可変光減衰器アレイ
- C-3-32 テルライトガラスを用いた高非線形性ホーリファイバ
- テルライトガラスを用いた高非線形性ホーリファイバの設計(次世代光ファイバ,機能性光ファイバ,フォトニック結晶ファイバ,光計測,光伝搬,光信号処理,一般)
- テルライトガラスを用いた高非線形性ホーリファイバの設計(次世代光ファイバ,機能性光ファイバ,フォトニック結晶ファイバ,光計測,光伝搬,光信号処理,一般)
- 二光子吸収特性を利用した有機ホウ素化合物の導波路構造型多層光メモリへの応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 二光子吸収特性を利用した有機ホウ素化合物の導波路構造型多層光メモリへの応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 二光子吸収特性を利用した有機ホウ素化合物の導波路構造型多層光メモリへの応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- KTN結晶導波路を用いた高速光スイッチ(光部品・電子デバイス実装技術, 一般)
- 非平面型金属フタロシアニン薄膜の吸収スペクトルと三次非線形光学特性
- テルライト系ガラスの三次非線形光学特性
- テルライト系ガラスの三次非線形光学特性
- テルライト系ガラスの三次非線形光学特性
- テルライト系ガラスの三次非線形光学特性
- 新規π電子系有機化合物の二光子吸収特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- 新規π電子系有機化合物の二光子吸収特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- 4)STN液晶空間光変調器(情報ディスプレイ研究会)
- 導波路ホログラムメモリにおける多層再生特性
- 導波路ホログラムメモリにおける多層再生特性 (光記録・情報記録材料,一般)
- 導波路ホログラムメモリにおける多層再生特性 (光記録・情報記録材料,一般)
- ラマンソリトン効果を用いた全光型光信号処理による非同期でのエラーフリー伝送(センサ,一般)
- C-4-27 ラマンソリトン効果を用いたプログラマブル多波長光源
- 光ファイバ中でのうマンソリトン効果(自己周波数シフト)を用いた光信号処理デバイスの開発
- KTN結晶導波路を用いた高効率位相変調器(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- KTN結晶導波路を用いた高効率位相変調器(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- KTN結晶導波路を用いた高効率位相変調器(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- C-3-90 KTN 結晶スラブ導波路の電気光学効果
- C-3-28 KTN 結晶導波路を用いた低電圧駆動 2 X 2 電気光学スイッチ
- KTN結晶導波路を用いた高速光スイッチ(光部品・電子デバイス実装技術, 一般)
- KTN結晶導波路を用いた高速光スイッチ(光部品・電子デバイス実装技術, 一般)
- KTN結晶導波路を用いた高速光スイッチ(光部品・電子デバイス実装技術, 一般)
- SC-10-5 ポリマ導波路を用いた波長可変フィルター・光路選択スイッチ
- シリコーン樹脂を用いた熱光学波長可変フィルターモジュールの光学特性
- シリコーン樹脂を用いた熱光学波長可変フィルターモジュールの光学特性
- C-3-120 シリコーン熱光学波長可変フィルター(2) : フィルターモジュールの特性
- A-6-8 積層導波路ホログラムメモリ用の2/16記録符号
- 含フッ素ポリイミドによる光導波路フィルムの特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- 含フッ素ポリイミドによる光導波路フィルムの特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- 10)コンベヤ式MOCVD装置によるZnS : Mn薄膜ELパネル(発光型ディスプレイ話題別研究会 : 情報ディスプレイ研究会)
- 3)1988国際ディスプレイ学会報告, 発光型平面パネル(画像表示研究会)
- ナノサイズ液晶ドロップレットを用いた波長可変フィルター
- ナノサイズ液晶ドロップレットを用いた波長可変フィルター
- ナノサイズ液晶ドロップレットを用いた波長可変フィルター
- 全フッ素化ポリイミドを用いた光導波路の作製と特性(光機能有機材料・デバイス, 光非線形現象, 一般)
- 全フッ素化ポリイミドを用いた光導波路の作製と特性(光機能有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- C-13-3 三角形状位相シフタを用いたポリマー熱光学波長可変フィルタ動作の低消費電力化および広帯域化
- 超100Gbit/s級OEICに向けた光インターフェースとしてのチップ上光配線構造
- 超100Gbit/s級OEICに向けた光インタフェースとしてのチップ上光配線構造
- 有機光導波路デバイス
- EMD2000-48 / CPM2000-63 / OPE2000-60 / LQE2000-54 高分子光導波路を用いたAWG型波長可変フィルタの高速・広帯域動作
- EMD2000-48 / CPM2000-63 / OPE2000-60 / LQE2000-54 高分子光導波路を用いたAWG型波長可変フィルタの高速・広帯域動作
- EMD2000-48 / CPM2000-63 / OPE2000-60 / LQE2000-54 高分子光導波路を用いたAWG型波長可変フィルタの高速・広帯域動作
- 高消光比が得られる熱光学可変光アッテネータ
- ポリマ導波路を用いた小型低電力ディジタル光スイッチの開発
- 高分子光導波路を用いたAWG型波長可変フィルタの高速・広帯域動作
- 読み出し専用積層導波路ホログラムメモリ : 開口多重による高密度化(量子効果型光デバイス,及び光集積化技術,及び一般)
- ナノサイズ液晶ドロップレットを用いた波長可変フィルター