清水 正毅 | 京都大学大学院工学研究科材料化学専攻
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
清水 正毅
京都大学大学院工学研究科材料化学専攻
-
檜山 爲次郎
京都大学大学院工学研究科材料化学専攻
-
檜山 爲次郎
京大院工
-
桧山 爲次郎
京都大学大学院工学研究科・材料化学専攻
-
平林 克彦
NTTフォトニクス研究所
-
神原 浩久
NTTフォトニクス研究所
-
栗原 隆
九州先端科学技術研究所
-
栗原 隆
Nttフォトニクス研究所
-
森 裕平
NTTフォトニクス研究所
-
平林 克彦
Nttフォトニクス総合研究所
-
神原 浩久
Ntt フォトニクス研
-
平林 克彦
Ntt フォトニクス研
-
檜山 爲次郎
京都大学大学院工学研究科・材料化学専攻
-
平林 克彦
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
-
佐々木 豊
三菱化学科学技術研究センター
-
前田 修一
三菱化学科学技術研究センター
-
安達 昌文
三菱化学科学技術研究センター
-
清水 正毅
京大院工
-
那谷 雅則
京大院工
-
氏家 誠司
大分大 工
-
竹原 貞夫
大日本インキ
-
氏家 誠司
大分大工
-
加藤 隆史
東大院工
-
吉尾 正史
東大院工
-
蟹江 澄志
東京大学大学院工学系研究科化学生命工学専攻
-
檜山 爲次郎
東工大資源研
-
蟹江 澄志
東工大資源研
-
田中 陽一郎
東工大資源研
-
清水 正毅
東工大資源研
-
望田 憲嗣
京大院工
-
渡辺 孝太郎
京大院工
-
檜山 爲次郎
大分大工
-
氏家 誠司
Department of Applied Chemistry, Oita University
-
中尾 佳亮
京都大学大学院工学研究科材料化学専攻
-
加藤 隆史
東京大学大学院工学系研究科化学生命工学専攻
-
竹原 貞夫
大日本インキ化学工業
-
吉尾 正史
東京大学大学院工学系研究科化学生命工学専攻
-
氏家 誠司
Department Of Applied Chemistry Oita University
著作論文
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 3PD05 脂肪族トリフルオロメチルエーテル部位を極性基とする新規液晶化合物の合成と物性
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- PB11 アルキル置換2, 3, 5, 6, 7, 8-ヘキサシラビシクロ [2.2.2] オクタンの合成と物性(トピカルセッション-液晶物性計測の最前線-, 2005年日本液晶学会討論会)
- PB46 1-アリール-2, 3, 5, 6, 7, 8-ヘキサシラビシクロ [2.2.2] オクタンの合成と物性(2004年日本液晶学会討論会)
- ケイ素架橋ビアリールの新合成法と固体発光機能 (特集 未来技術基盤としてのパイ電子科学)
- 非円盤状カラムナー液晶の構造と機能
- π電子共役系構築のための有機合成反応
- ファインケミカルズを指向する含フッ素・ケイ素標的分子の効率合成の最前線 (創刊30周年特集 キラルテクノロジーとグリーンバイオテクノロジーの開発)
- いま,クロスカップリングが熱い--日本で生まれ育った革新的化学技術
- 新形式有機ケイ素反応剤の活用 (有機合成化学の新潮流) -- (反応剤における新潮流)
- 液晶合成の刷新につながる交差カップリング反応