檜山 爲次郎 | 京大院工
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概要
関連著者
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檜山 爲次郎
京大院工
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檜山 爲次郎
京都大学大学院工学研究科材料化学専攻
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桧山 爲次郎
京都大学大学院工学研究科・材料化学専攻
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檜山 爲次郎
京都大学大学院工学研究科・材料化学専攻
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清水 正毅
京都大学大学院工学研究科材料化学専攻
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楠本 哲生
相模中研
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楠本 哲生
大日本インキ
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平林 克彦
NTTフォトニクス研究所
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神原 浩久
NTTフォトニクス研究所
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栗原 隆
九州先端科学技術研究所
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栗原 隆
Nttフォトニクス研究所
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森 裕平
NTTフォトニクス研究所
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平林 克彦
Nttフォトニクス総合研究所
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神原 浩久
Ntt フォトニクス研
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平林 克彦
Ntt フォトニクス研
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檜山 爲次郎
東工大資源研
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竹原 貞夫
大日本インキ化学工業
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平林 克彦
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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竹添 秀男
東工大・工
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竹原 貞夫
大日本インキ
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楠本 哲生
大日本インキ化学工業
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佐々木 豊
三菱化学科学技術研究センター
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佐藤 健一
相模中研
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前田 修一
三菱化学科学技術研究センター
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安達 昌文
三菱化学科学技術研究センター
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高西 陽一
東工大・工
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吉沢 篤
弘前大・理工
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檜山 爲次郎
京大院・工
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吉沢 篤
ジャパンエナジー・中研
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吉沢 篤
ジャパンエナジー 総研
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梅沢 順子
ジャパンエナジー
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鈴木 義一
昭和シェル石油・中研
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鈴木 義一
昭和シェル石油
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磯崎 忠昭
昭和シェル石油
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荻野 久美子
相模中研
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中村 佳代子
大日本インキ
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磯崎 忠昭
ソニー(株)フロンティアサイエンス研究所
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檜山 爲次郎
相模中研
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小林 一郎
昭和シェル石油・中研
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福田 敦夫
東工大
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福田 敦夫
東京工業大学 工学部
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吉田 昇平
東工大・理工学研究科
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吉田 昇平
東工大・工
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福田 敦夫
信州大・繊維
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蟹江 澄志
東京大学大学院工学系研究科化学生命工学専攻
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加藤 美穂
相模中研
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蟹江 澄志
東工大資源研
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吉田 昌平
東工大・理工学研究科
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小林 一郎
昭和シェル石油
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伊勢 典子
ジャパンエナジー中央研究所
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大澤 政志
大日本インキ総研
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中尾 佳亮
京都大学大学院工学研究科材料化学専攻
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大澤 政志
株式会社大日本インキ化学工業
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大沢 政志
大日本インキ化学工業
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大澤 政志
大日本インキ化学工業
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石川 謙
東工大・工
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福田 敦夫
東工大・工
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檜山 爲次郎
東工大・資源研
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高西 陽一
東工大工
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堤 治
東工大・資源研
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池田 富樹
東京工業大学資源化学研究所
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堤 治
東工大資源研
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池田 富樹
東工大資源研
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竹添 秀男
Department Of Organic And Polymeric Materials Tokyo Institute Of Technology
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八尾 晴彦
東京工業大学
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氏家 誠司
大分大工
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加藤 隆史
東大院工
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吉尾 正史
東大院工
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野崎 京子
東京大学大学院工学系研究科
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野崎 京子
東京大学大学院工学系研究科化学生命工学専攻
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楠本 哲生
大日本インキ化学工業(株)液晶材料技術本部
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高西 陽一
東工大院理工
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竹添 秀男
東工大院理工
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竹添 秀男
東京工業大学工学部
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根岸 真
東工大資源研
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河村 丞治
大日本インキ
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相沢 政男
大日本インキ
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小林 和裕
相模中研
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黒星 学
岡山大学工学部物質応用化学科
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田中 陽一郎
東工大資源研
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清水 正毅
東工大資源研
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水野 克哉
東工大資源研
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黒星 学
東工大資源研
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江間 健司
東京工業大学大学院理工学研究科物性物理学専攻
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福田 敦夫
東工大工
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竹添 秀男
東工大工
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葛西 陽一
東工大・工
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佐藤 里枝
ジャパンエナジー総研
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副枝 幸恵
ジャパンエナジー総研
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竹越 邦夫
東工大院理工
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八尾 晴彦
東工大院理工
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江間 健司
東工大院理工
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古澤 篤
弘前大理工
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八尾 晴彦
京都工芸繊維大学大学院工芸科学研究科高分子機能工学部門
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中山 昭子
相模中研
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清水 正毅
京大院工
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那谷 雅則
京大院工
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望田 憲嗣
京大院工
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西出 喜代治
相模中研
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中野 幸司
東京大学大学院工学系研究科化学生命工学専攻
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伊藤 佳代子
大日本インキ
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楠本 哲生
財団法人相模中央化学研究所
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檜山 爲次郎
財団法人相模中央化学研究所
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竹原 貞夫
株式会社大日本インキ化学工業
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氏家 誠司
大分大 工
-
根岸 真
大日本インキ化学工業(株)
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加藤 隆史
東京大学大学院工学系研究科化学生命工学専攻
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野崎 京子
東大 大学院工学系研究科
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甲斐 真里子
相模中研
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吉尾 正史
東京大学大学院工学系研究科化学生命工学専攻
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河村 丞治
大日本インキ化学工業(株)総合研究所
-
高西 陽一
東京工業大学大学院 理工学研究科
著作論文
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- 液晶と関連有機材料の最新研究
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 2C17 光応答性を示すキラルドーパントの合成と強誘電性液晶の光スイッチング
- 3PD05 脂肪族トリフルオロメチルエーテル部位を極性基とする新規液晶化合物の合成と物性
- 1D13 トリフルオロメチルアミノ基あるいはトリフルオロメトキシル基を有する新規液晶化合物の合成と物性
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- 2C08 キラル分子認識による新しい相転移挙動
- 3B16 含フッ素ジキラル化合物の異常な相転移と不斉認識 : 降温時に吸熱を伴う相転移が2回!!
- 1-2a 含フッ素ジキラル化合物に見られる光学的等方相の構造に関する知見
- 3PD08 含フッ素ジキラル化合物の異常な相転移挙動(3) : どうすればでるの?
- 3PD07 含フッ素ジキラル化合物の異常な相転移挙動(2) : スメクティック相なのに等方的?
- 3PD06 含フッ素ジラキル化合物の異常な相転移挙動(1) : 冷却時なのに吸熱ピーク?
- 27aWF-1 ジキラル液晶の熱測定(液晶・高分子固体)(領域12)
- PB11 アルキル置換2, 3, 5, 6, 7, 8-ヘキサシラビシクロ [2.2.2] オクタンの合成と物性(トピカルセッション-液晶物性計測の最前線-, 2005年日本液晶学会討論会)
- 3G217 ジヒドロベンゾフラン骨格を有する強誘電性液晶化合物
- 2B18 反強誘電性液晶の不斉炭素近傍へのメチル基導入効果
- 2B17 環構造で配座を固定した反強い誘電性液晶
- 2C13 二量体型反強誘電性液晶の設計・合成・物性
- 2C01 二量体型反強誘電性液晶の構造と物性
- 1A10 ジヒドロベンゾフラン骨格を有する強誘電性液晶用光学活性化合物の設計と合成
- 1A09 フルオロアルキル基を有するフェニルピリミジンの合成と物性
- 光学活性環構造を有する強誘電性液晶用キラルドーパントの設計と合成
- 3B418 強誘電性液晶のキラルドーパントとしての光学活性1,3-ジオールおよびその誘導体
- 3B401 立体的にかさ高いアルキル側鎖を有する強誘電性液晶
- シクロヘキセンオキシドと二酸化炭素との不斉交互共重合
- 分子内活性化を利用する有機ケイ素化合物の遷移金属触媒反応
- 液晶学会の発展を願って
- ケイ素架橋ビアリールの新合成法と固体発光機能 (特集 未来技術基盤としてのパイ電子科学)
- 高配位金属種の生成と反応制御による精密有機合成
- アルキンのカルボシアノ化反応
- 非円盤状カラムナー液晶の構造と機能
- π電子共役系構築のための有機合成反応
- 11 アミノ糖合成の新しいアプローチ