栗原 隆 | 九州先端科学技術研究所
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概要
関連著者
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栗原 隆
九州先端科学技術研究所
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神原 浩久
NTTフォトニクス研究所
-
神原 浩久
Ntt フォトニクス研
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栗原 隆
Nttフォトニクス研究所
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森 裕平
NTTフォトニクス研究所
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平林 克彦
NTTフォトニクス研究所
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平林 克彦
Ntt フォトニクス研
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平林 克彦
Nttフォトニクス総合研究所
-
平林 克彦
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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藤田 静雄
京都大学大学院工学研究科
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前田 修一
三菱化学科学技術研究センター
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清水 正毅
京都大学大学院工学研究科材料化学専攻
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檜山 爲次郎
京都大学大学院工学研究科材料化学専攻
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檜山 爲次郎
京大院工
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桧山 爲次郎
京都大学大学院工学研究科・材料化学専攻
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檜山 爲次郎
京都大学大学院工学研究科・材料化学専攻
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堀田 収
京都工繊大
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堀口 嵩浩
京都大学大学院工学研究科
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藤田 静雄
京都大学国際融合創造センター
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山雄 健史
京都工芸繊維大学大学院工芸科学研究科
-
堀田 収
京都工芸繊維大学大学院工芸科学研究科
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長田 裕也
京都大学大学院工学研究科
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中條 善樹
京都大学大学院工学研究科
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秋山 誠治
三菱化学科学技術研究センター
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中條 善樹
京都大学大学院工学研究科高分子化学専攻
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山雄 健史
京都工芸繊維大学 大学院工芸科学研究科 高分子機能工学部門
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堀田 収
京都工芸繊維大学 大学院工芸科学研究科
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秋山 誠治
株式会社三菱化学科学技術研究センター
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中條 善樹
京都大学大学院 工学研究科 高分子化学
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佐々木 豊
三菱化学科学技術研究センター
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香取 重尊
京都大学大学院工学研究科
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安達 昌文
三菱化学科学技術研究センター
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藤野 正家
群馬工業高等専門学校物質工学科
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竹ノ内 久美子
三菱化学科学技術研究センター
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岡田 真理子
京都大学産官学連携センター
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八木 生剛
NTTフォトニクス研究所
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香取 重尊
京都大学産官学連携センター
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石塚 知明
京都大学産官学連携センター
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藤田 静雄
京都大学産官学連携センター
-
栗原 隆
京都大学産官学連携センター
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八木生 剛
Nttサイバースペース研究所
-
八木生 剛
NTTフォトニクス研究所
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池之上 卓己
京都大学大学院工学研究科
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中野 秀俊
日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所
-
中野 秀俊
NTT物性科学基礎研究所
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大須賀 篤弘
京都大学大学院理学研究科
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藤田 静雄
京都大学大学院
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大須賀 篤弘
京都大学大学院工学研究科
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中野 秀俊
NTT物性科学基礎研
-
中野 秀俊
NTT物性基礎研
-
戒能 俊邦
Ntt光エレクトロニクス研究所:東北大学
-
池之上 卓己
京都大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
香取 重尊
京都大学大学院工学研究科電子工学専攻
著作論文
- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性を利用した積層導波路型光メモリ(光記録技術,一般)
- 有機ホウ素ポリマーの二光子吸収型多層光メモリへの応用
- 有機ホウ素ポリマーを用いた二光子吸収型光メモリ装置
- 二光子吸収特性を利用した有機ホウ素化合物の導波路構造型多層光メモリへの応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
- 有機ホウ素ポリマーの二光子吸収結合断裂
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 新規π電子系有機化合物の二光子吸収特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- 低分子3次非線形光学材料の特性
- 二光子吸収特性を利用した有機ホウ素化合物の導波路構造型多層光メモリへの応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 二光子吸収特性を利用した有機ホウ素化合物の導波路構造型多層光メモリへの応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 二光子吸収特性を利用した有機ホウ素化合物の導波路構造型多層光メモリへの応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 新規π電子系有機化合物の二光子吸収特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- 新規π電子系有機化合物の二光子吸収特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)