SC-10-5 ポリマ導波路を用いた波長可変フィルター・光路選択スイッチ
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2000-09-07
著者
-
金子 明正
NTTフォトニクス研究所
-
栗原 隆
Nttフォトニクス研究所
-
栗原 隆
Ntt光エレクトロニクス研究所
-
丸野 透
NTTフォトニクス研究所
-
丸野 透
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
-
大庭 直樹
Nttフォトニクス研究所
-
豊田 誠治
NTTフォトニクス研究所複合光デバイス研究部
-
栗原 隆
Ntt 光エレクトロニクス研
-
栗原 隆
Ntt光エレ研
-
丸野 透
Ntt フォトニクス研
-
豊田 誠治
Nttフォトニクス研究所
-
大庭 直樹
日本電信電話株式会社 Nttフォトニクス研究所
関連論文
- C-3-62 石英系PLC-LNハイブリッド集積技術を用いた100Gb/s偏波多重QPSK変調器(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- PLC集積型マイクロミラーアレイ作製技術とスタック型インラインモニタへの応用(フォトニックNWシステム・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
- 含フッ素ポリイミドによる光導波路フィルムの特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- C-3-56 全フッ素化ポリイミドを用いた3波WDMフィルタのモジュール化と温湿度特性(C-3. 光エレクトロニクス(ポリマー導波路), エレクトロニクス1)
- C-3-55 高屈折率差フッ素化ポリイミドフィルム光導波路の曲げ特性(C-3. 光エレクトロニクス(ポリマー導波路), エレクトロニクス1)
- C-3-60 全フッ素化ポリイミド光導波路の特性[III] : 3波WDMフィルタの温度および湿度特性(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- C-3-59 全フッ素化ポリイミド光導波路の特性[II] : シリコンならびにポリイミド基板を用いて作製されたフィルム導波路(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- C-3-58 全フッ素化ポリイミド光導波路の特性[I] : 光配線用フィルム光導波路の曲げ特性(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- 積層高分子導波路ホログラムROM
- 光通信デバイス用ポリマー光学材料(有機材料・一般)
- 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性(光波ネットワーク・光アクセスに向けた光波デバイス,光集積回路,一般)
- B-10-84 ファブリペロー電気光学変調器を用いた高安定な40GHzパルス列の発生(B-10. 光通信システムB(光通信))
- C-3-42 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[IV] : ポリイミドWDMを用いたスケーラブルネットワーク(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-41 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[III] : ポリイミド8ch-CWDMとADM(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-40 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[II] : 全フッ素化ポリイミドを用いた光導波路とCWDMへの適用(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-39 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[I] : 光学用ポリイミド基板と光導波路への適用(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
- KTN結晶導波路を用いた高効率位相変調器
- KTN結晶導波路を用いた高効率位相変調器(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- 有機ホウ素ポリマーを用いた二光子吸収型光メモリ装置
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
- 有機ホウ素ポリマーの二光子吸収結合断裂
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 新規π電子系有機化合物の二光子吸収特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- C-3-39 波長モニタ用AWGの透過波長掃引特性(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-63 石英系PLC-LNハイブリッド集積技術を用いた小型RZ-DQPSK変調器(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- 平面光波回路(PLC)型光パフォーマンスモニタ
- C-3-112 ポリマ導波路型光送受信モジュールの耐環境性
- EMD2000-48 / CPM2000-63 / OPE2000-60 / LQE2000-54 高分子光導波路を用いたAWG型波長可変フィルタの高速・広帯域動作
- シリコーン熱光学波長可変フィルター(3) : 三角形状薄膜ヒーター加熱による応答速度の向上および選択波長の広帯域化
- マルチチップ集積PLCモジュールにおけるチップ接続構造信頼性試験(光部品の実装・信頼性,一般)
- 多チャネルモニタ用PDアレイにおけるクロストーク特性の検討(光部品の実装・信頼性,一般)
- C-3-44 マルチチップ集積PLCモジュールの接続構造検討(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-4-17 多チャネルモニタ用PDアレイにおける低クロストーク化の検討(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-32 テルライトガラスを用いた高非線形性ホーリファイバ
- テルライトガラスを用いた高非線形性ホーリファイバの設計(次世代光ファイバ,機能性光ファイバ,フォトニック結晶ファイバ,光計測,光伝搬,光信号処理,一般)
- テルライトガラスを用いた高非線形性ホーリファイバの設計(次世代光ファイバ,機能性光ファイバ,フォトニック結晶ファイバ,光計測,光伝搬,光信号処理,一般)
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- KTN結晶導波路を用いた高速光スイッチ(光部品・電子デバイス実装技術, 一般)
- C-3-6 平面光波回路(PLC)集積型インバンドOSNRモニタ(導波路デバイス(1),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- 多チャネルモニタ用PDアレイにおけるクロストーク特性の検討(光部品の実装・信頼性,一般)
- 多チャネルモニタ用PDアレイにおけるクロストーク特性の検討(光部品の実装・信頼性,一般)
- C-3-78 石英系PLC-LiNbO_3ハイブリッド集積64QAM変調器(光変調器,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- 紫外レーザー光照射による温度無依存化石英系AWGの中心波長制御
- 低損失1×32ch石英系AWGモジュール
- 平面光波回路(PLC)型光パフォーマンスモニタ(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
- 平面光波回路(PLC)型光パフォーマンスモニタ(フォトニック NW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
- 平面光波回路(PLC)型光パフォーマンスモニタ(フォトニック NW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
- 新規π電子系有機化合物の二光子吸収特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- 新規π電子系有機化合物の二光子吸収特性(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- 導波路ホログラムメモリにおける多層再生特性
- 導波路ホログラムメモリにおける多層再生特性 (光記録・情報記録材料,一般)
- 導波路ホログラムメモリにおける多層再生特性 (光記録・情報記録材料,一般)
- ラマンソリトン効果を用いた全光型光信号処理による非同期でのエラーフリー伝送(センサ,一般)
- C-4-27 ラマンソリトン効果を用いたプログラマブル多波長光源
- C-3-80 超低消費電力PLCスイッチ(光スイッチ,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- SC-10-5 ポリマ導波路を用いた波長可変フィルター・光路選択スイッチ
- ポリマー導波路を用いたWDM用熱光学波長可変フィルタ
- シリコーン樹脂を用いた熱光学波長可変フィルターモジュールの光学特性
- シリコーン樹脂を用いた熱光学波長可変フィルターモジュールの光学特性
- C-3-120 シリコーン熱光学波長可変フィルター(2) : フィルターモジュールの特性
- C-3-92 高分子導波路を核とした光部品の開発
- シリコーン樹脂を用いた熱光学波長可変フィルターモジュールの光学特性
- シリコーン樹脂を用いた熱光学波長可変フィルターモジュールの光学特性
- シリコーン熱光学波長可変フィルター
- シリコーン熱光学波長可変フィルター
- シリコーン熱光学波長可変フィルター
- シリコーン熱光学波長可変フィルター
- シリコーン熱光学波長可変フィルター
- 45゜マイクロミラー付きポリマ光導波路フィルムの作製
- フレキシブルマルチモードポリマー導波路
- ポリマーフレキシブル導波路
- ポリマーフレキシブル導波路
- マルチチップ集積PLCモジュールにおけるチップ接続構造信頼性試験(光部品の実装・信頼性,一般)
- マルチチップ集積PLCモジュールにおけるチップ接続構造信頼性試験(光部品の実装・信頼性,一般)
- C-3-9 カスケード接続による32ch極低クロストークAWG
- C-3-8 1.5%-Δ石英系光導波路を用いた小型16ch AWG合分波モジュール
- 損失均一化波長周回性(ULCF)AWGルータ
- C-3-111 アサーマル型16チャネル光アドドロップマルチプレクサ
- PLC集積型マイクロミラーアレイ作製技術とスタック型インラインモニタへの応用
- C-3-109 石英系平面光波回路(PLC)を用いた発振周波数制御ハイブリッド集積多波長光源
- PLCプラットフォームを用いた8chWDM光受信サブモジュールの作製
- メトロポリタンエリアNW用低損失広帯域温度無依存1x8ch AWGモジュール
- アサーマルアレイ導波路格子型波長合分波器(3)
- EMD2000-49 / CPM2000-64 / OPE2000-61 / LQE2000-55 極低クロストーク波長合分波器を実現するカスケードAWG技術
- EMD2000-49 / CPM2000-64 / OPE2000-61 / LQE2000-55 極低クロストーク波長合分波器を実現するカスケードAWG技術
- EMD2000-49 / CPM2000-64 / OPE2000-61 / LQE2000-55 極低クロストーク波長合分波器を実現するカスケードAWG技術
- EMD2000-49 / CPM2000-64 / OPE2000-61 / LQE2000-55 極低クロストーク波長合分波器を実現するカスケードAWG技術
- 石英系アレイ導波路グレーティング型波長多重フィルタのモジュール化技術とその信頼性特性
- 石英系アレイ導波路グレーティング型波長多重フィルタのモジュール化技術とその信頼性特性