都丸 暁 | Nttアドバンステクノロジ株式会社
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概要
関連著者
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都丸 暁
Nttアドバンステクノロジ株式会社
-
疋田 真
NTTアドバンステクノロジ株式会社
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都丸 暁
NTT光エレクトロニクス研究所
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疋田 真
NTT光エレクトロニクス研究所
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今村 三郎
NTT光エレクトロニクス研究所
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吉村 了行
NTT光エレクトロニクス研究所
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疋田 真
NTTフォトニクス研究所
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圓佛 晃次
NTT 光エレクトロニクス研究所
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川上 直美
NTTアドバンステクノロジ株式会社
-
今村 三郎
NTTアドバンステクノロジ株式会社
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天野 道之
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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圓佛 晃次
NTT光エレクトロニクス研究所
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天野 道之
NTT 光エレクトロニクス研究所
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都丸 暁
NTT 光エレクトロニクス研究所
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橋本 俊和
NTTフォトニクス研究所
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首藤 義人
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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天野 道之
NTT光エレクトロニクス研究所 光材料研究部
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首藤 義人
NTT光エレクトロニクス研究所 光材料研究部
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川上 直美
Nttアドバンステクノロジ
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栗原 隆
Nttフォトニクス研究所
-
栗原 隆
Ntt光エレクトロニクス研究所
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山本 二三男
NTTアドバンステクノロジ株式会社
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丸野 透
NTTフォトニクス研究所
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笠原 亮一
NTTフォトニクス研究所
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井藤 幹隆
NTTフォトニクス研究所,日本電信電話株式会社
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栗原 隆
Ntt 光エレクトロニクス研
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栗原 隆
Ntt光エレ研
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井藤 幹隆
Nttフォトニクス研究所 日本電信電話株式会社
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井藤 幹隆
NTTフォトニクス研究所
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山田 貴
NTTフォトニクス研究所
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山田 貴
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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金子 明正
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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加藤 和利
NTTフォトニタス研究所
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松浦 徹
Nttフォトニクス研究所
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松浦 徹
Nttアドバンステクノロジ(株) 材料開発&分析センタ
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山内 篤
Nttアドバンステクノロジ株式会社先端技術事業本部光デバイス事業部光マイクロデバイス技術部
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丸野 透
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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大山 貴晴
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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赤堀 裕二
Nttエレクトロニクス株式会社
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赤掘 裕二
Nttフォトニクス研究所
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渡辺 俊夫
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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加藤 和利
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
-
渡辺 俊夫
NTT光エレクトロニクス研究所
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加藤 和利
Nttフォトニクス研究所
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大山 貴晴
NTTフォトニクス研究所
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赤堀 裕二
NTTフォトニクス研究所
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松浦 徹
NTT基礎技術総合研究所
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金子 明正
NTTエレクトロニクス株式会社
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加藤 和利
NTTエレクトロニクス株式会社
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赤掘 裕二
NTT光エレクトロニクス研究所
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丸野 透
Ntt フォトニクス研
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栗原 隆
日本電信電話株式会社 Nttフォトニクス研究所
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小林 潤也
NTTフォトニクス研究所
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川田 久美子
NTTアドバンステクノロジ株式会社ファイバインテグレーション事業部
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大庭 直樹
Nttフォトニクス研究所
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川田 久美子
Nttアドバンステクノロジ株式会社
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疋田 真
NTT 光エレクトロニクス研究所
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今村 三郎
NTT 光エレクトロニクス研究所
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碓氷 光男
NTT光エレクトロニクス研究所
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碓氷 光男
Ntt マイクロシステムインテグレーション研
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村越 裕
NTTアドバンステクノロジ株式会社
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村田 則夫
NTTアドバンステクノロジ
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碓氷 光男
日本電信電話株式会社
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山内 篤
Nttアドバンステクノロジ
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川田 久美子
Nttアドバンステクノロジ
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松浦 徹
日本電信電話(株)マイクロシステムインテグレーション研究所
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栗原 隆
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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菅井 栄一
NTTアドバンステクノロジ株式会社ファイバインテグレーション事業部
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勝山 豊
大阪府立大学
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疋田 真
Ntt Opto-electronics Laboratory
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疋田 真
Nttアドバンステクノロジ(株)光デバイス技術部
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今村 三郎
Nttアドバンステクノロジ
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菅井 栄一
Nttアドバンステクノロジ株式会社
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小林 潤也
NTTアドバンステクノロジ株式会社
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山田 渉
東工大
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圓佛 晃次
Nttフォトニクス研究所複合光デバイス研究部
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都丸 暁
NTTフォトニクス研究所
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加藤 雄二郎
NTTフォトニクス研究所
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小林 潤也
Ntt光エレクトロニクス研究所
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安東 泰博
(株)フジクラ光電子回路開発センター
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東野 俊一
日本電信電話株式会社nttフォトニクス研究所
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大庭 直樹
NTT光エレクトロニクス研究所
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桂 浩輔
Ntt通信エネルギー研究所
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安東 泰博
NTT光エレクトロニクス研究所
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勝山 豊
大阪府立大学大学院工学研究科
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小勝負 信建
Nttフォトニクス研究所
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小勝負 信建
Ntt通信エネルギー研究所
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安東 泰博
(株)フジクラ 光電子回路開発センター
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大野 透
NTT光エレクトロニクス研究所
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疋田 真
Nttアドバンステクノロジ
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大庭 直樹
日本電信電話株式会社 Nttフォトニクス研究所
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吉村 了行
NTT 光エレクトロニクス研究所
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村田 則夫
NTTアドバンステクノロジ株式会社
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山内 一美
NTTアドバンステクノロジ株式会社
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菅井 栄一
NTTアドバンステクノロジ(株)
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金子 明正
NTTフォトニクス研究所
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横尾 篤
NTT光エレクトロニクス研究所
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工藤 あや子
NTTアドバンステクノロジ株式会社
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大庭 直樹
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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横山 博一
東レ・デュポン株式会社
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杉本 範己
東レ・デュポン株式会社
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手柴 敏博
東レ・デュポン株式会社
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杉田 彰夫
NTTフォトニックス研究所
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山本 隆一
東京工業大学資源化学研究所
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山本 隆一
東工大資源研
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芳賀 由昌
NTTアドバンステクノロジ株式会社ファイバインテグレーション事業部
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今村 三郎
NTT アドバンステクノロジ株式会社
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小林 修
NTTアドバンステクノロジ株式会社先端技術事業本部光デバイス事業部光マイクロデバイス技術部
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秋田 博朗
NTTアドバンステクノロジ株式会社先端技術事業本部光デバイス事業部光マイクロデバイス技術部
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西尾 隆一
NTTアドバンステクノロジ株式会社先端技術事業本部光デバイス事業部光マイクロデバイス技術部
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植竹 孝
NTTアドバンステクノロジ株式会社先端技術事業本部光デバイス事業部光マイクロデバイス技術部
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姫野 明
NTTエレクトロニクス株式会社
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猿渡 正俊
NTT光ネットワークシステム研究所
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渡辺 俊夫
NTTフォトニクス研究所
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小勝負 信建
NTT通信エネルギ研究所
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姫野 明
NTTフォトニクス研究所
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田村 保暁
NTTエレクトロニクス(株)
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渡辺 俊夫
NTT エレクトロニクス株式会社
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大森 保治
NTTエレクトロニクス(株)
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安東 泰博
NTT通信エネルギー研究所
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桂 浩輔
NTT光エレクトロニクス研究所
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東野 俊一
NTT光エレクトロニクス研究所
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佐藤 弘次
NTT光エレクトロニクス研究所
-
高良 秀彦
Ntt光ネットワークシステム研究所
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大森 保治
Nttフォトニクス研究所
-
大森 保治
日本電信電話(株)光エレクトロニクス研究所
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吉村 了行
Nttフォトニクス研究所
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高原 秀行
Nttマイクロンステムインテグレーション研究所
-
高原 秀行
Ntt通信エネルギー研究所
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今村 三朗
NTTアドバンステクノロジ(株)光デバイス事業部
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河尻 祐子
NTT光エレクトロニクス研究所
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大庭 直樹
Ntt フォトニクス研
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大森 保治
Ntt フォトニクス研
-
大森 保治
日本電信電話株式会社nttフォトニクス研究所
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小澤口 治樹
NTT光エレクトロニクス研究所
-
杉田 彰夫
Nttフォトニクス研究所
-
川西 悟基
NTT光ネットワークシステム研究所
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佐藤 弘次
NTT フォトニクス研究所
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首藤 義人
NTT フォトニクス研究所
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田村 保暁
NTT光エレクトロニクス研究所
-
金子 明正
NTT光エレクトロニクス研究所
-
河尻 祐子
NTTマイクロシステムインテグレーション研究所
-
東野 俊一
NTT 光エレクトロニクス研究所
-
河尻 祐子
NTT 通信エネルギー研究所
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新井 芳光
日本電信電話株式会社nttマイクロシステムインテグレーション研究所
-
新井 芳光
NTT光エレクトロニクス研究所
-
都丸 曉
NTT光エレクトロニクス研究所
-
安東 泰博
NTT 光エレクトロニクス研究所
-
山田 渉
東京工業大学資源化学研究所
-
新井 芳光
日本電信電話株式会社 Ntt通信エネルギー研究所
-
大庭 直樹
日本電信電話株式会社 Nttアクセスサービスシステム研究所
-
桂 浩輔
Ntt 光エレクトロニクス研
-
山本 隆一
東工大
-
疋田 真
Nttアドバンステクノロジ(株)光デバイス事業部
-
河尻 祐子
日本電信電話(株)nttマイクロシステムインテグレーション研究所
-
碓氷 光男
日本電信電話株式会社nttマイクロシステムインテグレーション研究所
-
工藤 あや子
Nttアドバンステクノロジ
-
村上 雅之
NTTアドバンステクノロジ株式会社
-
西尾 隆一
NTTアドバンステクノロジ株式会社
-
道口 将之
NTTアドバンステクノロジ株式会社
-
圓佛 晃次
NTTフォトニクス研究所
著作論文
- C-3-60 全フッ素化ポリイミド光導波路の特性[III] : 3波WDMフィルタの温度および湿度特性(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性(光波ネットワーク・光アクセスに向けた光波デバイス,光集積回路,一般)
- C-3-42 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[IV] : ポリイミドWDMを用いたスケーラブルネットワーク(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
- C-3-41 光通信用ポリイミドを用いた光部品の作製と特性[III] : ポリイミド8ch-CWDMとADM(ポリマーデバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
- ファイバカプラ : 技術の動向(光ファイバ・部品技術)(光回路実装技術の現状と今後 : ブロードバンド時代を迎えて)
- C-3-153 ポリイミド4ch-CWDMモジュールの信頼性
- C-3-94 UV硬化型エポキシ樹脂を用いたポリマ光導波路 (4) : 光インタコネクションへの適用
- C-3-85 ポリイミド4ch CWDMモジュールの特性
- C-3-112 ポリマ導波路型光送受信モジュールの耐環境性
- シリコーンポリマ導波路型光送受信モジュール (MES2000 第10回マイクロエレクトロニクスシンポジウム)
- 高分子の特徴を活かした光導波路の展開
- 4)EO/パッシブ混載型高分子光導波路(情報ディスプレイ研究会)
- EO/パッシブ混載型高分子光導波路 : 情報ディスプレイ
- EO/パッシブ混載型高分子光導波路
- EO高分子による縦型方向性結合器
- 平坦なSi基板上に作製したPLCによる光送受信モジュール
- EMD2000-41 / CPM2000-56 / OPE2000-53 / LQE2000-47 Siテラス省略化PLCプラットフォームの検討と8ch多波長受信モージュールへの適用
- EMD2000-41 / CPM2000-56 / OPE2000-53 / LQE2000-47 Siテラス省略化PLCプラットフォームの検討と8ch多波長受信モジュールへの適用
- EMD2000-41 / CPM2000-56 / OPE2000-53 / LQE2000-47 Siテラス省略化PLCプラットフォームの検討と8ch多波長受信モジュールへの適用
- EMD2000-41 / CPM2000-56 / OPE2000-53 / LQE2000-47 Siテラス省略化PLCプラットフォームの検討と8ch多波長受信モジュールへの適用
- 45゜マイクロミラー付きポリマ光導波路フィルムの作製
- SC-3-7 光導波路形成用紫外線硬化アクリル樹脂
- 有機非線形光学結晶AANPを用いた光サンプリング光波形測定法の高SNR化
- プラスチックプラットフォームによるポリマー導波路フィルムへのファイバ実装
- 原子間力顕微鏡(AFM)を用いた平面導波路型光路垂直変換デバイスのミラー表面評価
- 短距離光インタコネクション用ポリマ導波路フィルムの開発
- UV硬化型エポキシ樹脂を用いたポリマ光導波路(3) : 曲がり光導波路の作製・特性
- UV硬化型エポキシ樹脂を用いたポリマー光導波路(2) : 直接露光法による耐熱性ポリマー光導波路の作製
- UV硬化型エポキシ樹脂を用いた高耐熱性マルチモード光導波路
- UV硬化型エポキシ樹脂を用いた高耐熱性マルチモード光導波路
- UV硬化型エポキシ樹脂を用いた高耐熱性マルチモードポリマー光導波路
- C-3-93 UV硬化型エポキシ樹脂を用いた導波路フィルム
- 光インタコネクション用ポリマ光導波路フィルム
- ポリマー光導波路フィルムの表面状態の評価
- 25Gb/s級40ch光インタコネクション(ParaBIT)の開発(5) : 45°ミラー付きポリマー光導波路フィルムの特性
- 電気光学効果高分子材料を用いた光強度変調器
- 3)ポリアリレンエチニレン系π共役高分子の3次元非線形特性(情報ディスプレイ研究会)
- ポリアリレンエチニレン系π共役高分子の3次光非線形特性 : 情報ディスプレイ
- 光インタコネクション用45°ミラー付きポリマ光導波路
- ポリマーを用いた光導波路デバイスの最新動向 (特集 光通信デバイスに期待されるプラスチック技術(1))
- 光導波路 (特集「光素子製造に関する精密加工技術」)
- 光インタコネクション用45°ミラー付きポリマ光導波路
- 光インタコネクション用45°ミラー付きポリマ光導波路
- 光インタコネクション用45°ミラー付きポリマ光導波路
- 45°ミラー付き低損失ポリマ光導波路
- 45°全反射ミラー付きポリマ光導波路フィルム
- B-13-24 新しい光コネクタ用接着剤(B-13.光ファイバ応用技術,一般セッション)
- C-3-84 光ファイバアレイV溝固定用高耐湿性UV硬化型接着剤の開発(マルチコア・マルチモード・接続技術(1),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)