有機金属気相成長CdTe層のドライエッチング特性の検討
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概要
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CH_4, Ar, H_2及びN_2を用いたCdTe層のECRプラズマエッチング特性について検討した.エッチング速度はN_2を供給することにより減少することが分かった.エッチング速度は CH_4 供給量の少ない領域では増加するが, その後さらに供給量を増加すると0まで減少することが分かった.また H_2, Arのみによってもエッチングは生じ, H_2供給量とともにエッチング速度は増加することが分かった.実験結果をもとにエッチング機構について検討した.またエッチングがヨウ素ドープCdTe層の電気特性に及ぼす影響について, PL及びHall効果測定の結果から検討した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1998-05-22
著者
-
安田 和人
名古屋工業大学 電気情報工学科
-
浅井 良彦
名古屋工業大学 電気情報工学科
-
犬飼 文人
名古屋工業大学 電気情報工学科
-
二村 徹
名古屋工業大学 電気情報工学科
-
浅井 良彦
名古屋工業大学電気情報工学科
-
宮田 充宜
名古屋工業大学電気情報工学科
-
荒木 紀明
名古屋工業大学電気情報工学科
-
宮田 充宣
名古屋工業大学電気情報工学科
-
犬飼 文人
名古屋工業大学電気情報工学科
-
安田 和人
名古屋工業大学
-
二村 徹
名古屋工業大学電気情報工学科
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