大規模3次元メッシュを対象とした頑強な電子透かし(<特集>コンピュータアニメーションおよび一般)
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概要
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以前我々が発表した3次元ポリゴンメッシュを対象とする電子透かし手法は,そのメッシュの幾何形状の「低周波」成分をメッシュスペクトルの領域で変更することで透かしを埋め込んだ.同手法はメッシュスムージング,部分切り取り,メッシュ簡単化などに耐性を持った.しかし,同手法はスペクトル分解にかかる計算コストが高く,さらに,複数の操作を合わせた妨害,例えば,メッシュ簡単化・相似変換・部分切り取りを合わせた妨害などで透かしが壊れる,という弱点を持っていた.本論文ではこれらの弱点を改善する手法を提案する.まず,計算コストを下げるため新たな固有値分解手法を導入した.また,より高精度の位置合わせを導入することで複数の操作を合わせた妨害に対する耐性を付加した.
- 一般社団法人情報処理学会の論文
- 2002-04-19
著者
-
高橋 成雄
東京大学大学院新領域創成科学研究科
-
大渕 竜太郎
山梨大学医学工学総合研究部
-
大渕 竜太郎
山梨大学工学部コンピュータ・メディア工学科
-
向山 明夫
山梨大学大学院工学研究科
-
向山 明夫
山梨大学 大学院工学研究科 電子情報工学専攻
-
高橋 成雄
東京大学大学院情報理工学系研究科:東京大学大学院新領域創成科学研究科
-
高橋 成雄
東京大学大学院
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