スペクトル分解を用いた3次元メッシュ電子透かしの耐性強化法(<特集>コンテンツ制作のための形状処理と一般)
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概要
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電子透かしは, 各種のデータを対象とし, それに透かしと呼ばれる構造を付加して情報を埋め込む.我々が以前発表した3次元ポリゴンメッシュを対象とする手法では, メッシュのスペクトル係数を変更して透かしを付加する.この透かしはメッシュの相似変換, 頂点座標への乱数値重畳, 形状スムージングに対し耐性を持つ.しかしこの手法は, メッシュの頂点数増加に伴い計算期間が急増し, またメッシュに頂点接続性を変更する操作を加えると透かしが壊れる.本論文では, これら2つの短所を改善するため, モデルの領域分割により透かし処理を高速化する手法, 形状リサンプリングにより頂点接続性を変更する操作に対する耐性を増す手法の2つを提案する.
- 一般社団法人情報処理学会の論文
- 2001-02-16
著者
-
高橋 成雄
東京大学大学院新領域創成科学研究科
-
高橋 成雄
群馬大学総合情報処理センター
-
大渕 竜太郎
山梨大学医学工学総合研究部
-
大渕 竜太郎
山梨大学工学部コンピュータ・メディア工学科
-
向山 明夫
山梨大学大学院工学研究科
-
向山 明夫
山梨大学 大学院工学研究科 電子情報工学専攻
-
宮澤 貴彦
山梨大学工学部コンピュータ・メディア工学科
-
向山 明夫
山梨大学工学部コンピュータ・メディア工学科
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