2813 複合粒子研磨法の開発 : 両面研磨への適用
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概要
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Double-sided polishing is widely applied to obtain extreme flatness in thin workpieces. The polishing, however, has problem relating to roll off due to the deformation of polishing pads. In this study, a four body finishing utilizing polymer particles, that is, a pad-free polishing is introduced to overcome the above-mentioned problem. A series of experiments revealed that the surface quality and the polishing efficiency are comparable to those obtained by conventional polishing and that the flatness is significantly improved. Furthermore, it was found that the surface roughness of tool plate and the thickness of carrier have important effects on polishing performances.
- 社団法人日本機械学会の論文
- 2002-09-20
著者
-
榎本 俊之
大阪大学大学院工学研究科
-
榎本 俊之
東京大学生産技術研究所
-
榎本 俊之
東大生研
-
谷 泰弘
東大生研
-
盧 毅申
東大生研
-
河田 研治
(株)フジミインコーポレーテッド
-
盧 毅申
東京大学生産技術研究所
-
河田 研治
東大生研
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