ARE(活性化反応性蒸着)法によるcBN膜(<特集>超硬質薄膜形成技術の新展開)
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概要
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- 公益社団法人精密工学会の論文
- 1987-10-05
著者
-
斎藤 一也
(株)アルバック筑波超材料研究所
-
伊藤 昭夫
日本真空技術(株)
-
渡辺 一弘
日本真空技術(株)
-
斉藤 一也
日本真空技術 筑波超材研
-
稲川 幸之助
日本真空技術株式会社
-
湯池 祥之
日本真空技術(株)
-
稲川 幸之助
日本真空技術(株) 千葉超材料研究所
-
渡辺 一弘
日本真空技術 (株) 超材料研究所 筑波研究所
-
斉藤 一也
日本真空技術 (株) 超材料研究所
-
稲川 幸之助
日本真空技術 (株) 超材料研究所
-
伊藤 昭夫
日本真空技術 (株) 超材料研究所
-
湯池 祥之
日本真空技術 (株) 超材料研究所
-
渡辺 一弘
日本真空技術 (株) 超材料研究所
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