稲川 幸之助 | 日本真空技術 (株) 超材料研究所
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概要
関連著者
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稲川 幸之助
日本真空技術 (株) 超材料研究所
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稲川 幸之助
日本真空技術(株) 千葉超材料研究所
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稲川 幸之助
日本真空技術株式会社
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伊藤 昭夫
日本真空技術(株)
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伊藤 昭夫
日本真空技術 (株) 超材料研究所
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渡辺 一弘
日本真空技術 (株) 超材料研究所 筑波研究所
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渡辺 一弘
日本真空技術(株)
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斉藤 一也
日本真空技術 筑波超材研
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稲川 幸之助
日本真空技術 (株) 超材料研究所筑波研究所
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斎藤 一也
日本真空技術 (株) 超材料研究所
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渡辺 一弘
日本真空技術 (株) 超材料研究所
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斎藤 一也
日本真空技術株式会社
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斎藤 一也
(株)アルバック筑波超材料研究所
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高橋 善和
日本真空技術株式会社筑波超材料研究所
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飯島 正行
日本真空技術(株) 筑波超材料研究所
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日比野 直樹
日本真空技術株式会社
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銭谷 利宏
日本真空技術株式会社
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太田 賀文
日本真空技術株式会社
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倉内 利春
日本真空技術(株)筑波超材研
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湯池 祥之
日本真空技術(株)
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田中 一郎
日本真空技術 (株) 超材料研究所 筑波研究所
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飯島 正行
日本真空技術 (株) 筑波超材料研究所
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斉藤 一也
日本真空技術 (株) 超材料研究所
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高橋 善和
日本真空技術 (株) 筑波超材料研究所
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倉内 利春
日本真空技術 (株) 超材料研究所
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太田 賀文
日本真空技術(株)
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湯池 祥之
日本真空技術 (株) 超材料研究所
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森田 正
株式会社 アルバック 筑波超材料研究所
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阿部 哲也
原研
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清水 昭
日本真空技術株式会社
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村上 義夫
日本原子力研究所那珂研究所
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阿部 哲也
日本原子力研究所 那珂研究所
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阿部 哲也
原研 那珂研
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塚越 清美
日本真空技術(株)筑波超材料研究所
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多田 勲
日本真空技術株式会社
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山守 哲也
日本真空技術株式会社
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森田 正
日本真空技術(株)筑波超材研
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箱守 宗人
日本真空技術(株)筑波超材料研究所
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村上 義夫
日本原子力研究所核融合研究センター
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飯島 正行
日本真空技術(株)筑波超材料研究所
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塚原 園子
日本真空技術
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伊藤 裕
(株) 日立製作所
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溝口 忠憲
(株) 日立製作所
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佐川 準基
(株) 日立製作所
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梶浦 宗次
(株) 日立製作所日立工場
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中川 利春
日本真空技術 超材研
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塚原 園子
日本真空技術 (株) 超材料研究所
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阿部 哲也
日本原子力研究所
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高 衛
中国科学院北京真空物理研究室, 現在日本真空超材料研究所滞在中
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尾上 公正
日本真空技術 (株) 超材料研究所
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松岡 新吾
日本真空技術 (株) 超材料研究所
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関野 一仁
日本真空技術 (株) 超材料研究所
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飯島 正行
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日本真空技術 (株) 超材料研究所 筑波研究所
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佐川 準基
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伊藤 昭夫
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日本真空技術 (株) 超材料研究所筑波研究所
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大石 幸司
日本真空技術 (株) 超材料研究所
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小島 仁
日本真空技術 (株) 超材料研究所
著作論文
- 活性化反応性蒸着による透明バリアーアルミナ膜の生成と評価
- 2A06 JT-60第一壁保護膜の開発
- ARE(活性化反応性蒸着)法によるcBN膜(超硬質薄膜形成技術の新展開)
- 真空蒸着およびスパッタによるAl膜の形成と評価
- 硬質膜の実用化開発
- 巻取方式マグネトロンプラズマ化学蒸着によるダイヤモンド状炭素膜の形成とその特性
- 超硬質膜形成と応用の展望(硬質膜の精密工業への応用)
- PVD 法による機能性材料(材料表面機能化とその材料特性)
- 透明バリヤー膜の形成技術
- TiCを被覆したJT-60用第一壁材料の開発 (III) : HCD-ARE法によるインコネル基材へのコーティング
- 活性化反応性蒸着によるZrC膜の形成
- PVD法によるc-BN膜の生成
- 表面処理
- 真空中での芳香族ポリイミドの合成(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- 真空中での芳香族ポリアミドの合成(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- HCD-ARE法による炭化ケイ素膜の形成(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- Ti-N薄膜のガス放出特性-1- (第29回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- タイトル無し