斉藤 一也 | 日本真空技術 (株) 超材料研究所
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概要
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斉藤 一也
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斉藤 一也
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日本真空技術 (株) 超材料研究所
著作論文
- ARE(活性化反応性蒸着)法によるcBN膜(超硬質薄膜形成技術の新展開)
- Ti-N薄膜のガス放出特性 (III)
- X線用積層型ゾーンプレートの試作とその性能評価
- Ti-N薄膜のガス放出特性と膜構造
- HCD-ARE法による炭化ケイ素膜の形成(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)