稲川 幸之助 | 日本真空技術(株) 千葉超材料研究所

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• 稲川 幸之助

  日本真空技術(株) 千葉超材料研究所

• 稲川 幸之助

  日本真空技術 (株) 超材料研究所

• 稲川 幸之助

  日本真空技術株式会社

• 伊藤 昭夫

  日本真空技術(株)

• 伊藤 昭夫

  日本真空技術 (株) 超材料研究所

• 渡辺 一弘

  日本真空技術(株)

• 渡辺 一弘

  日本真空技術 (株) 超材料研究所 筑波研究所

• 阿部 哲也

  日本原子力研究所 那珂研究所

• 斉藤 一也

  日本真空技術 筑波超材研

• 村上 義夫

  日本原子力研究所核融合研究センター

• 斎藤 一也

  (株)アルバック筑波超材料研究所

• 高橋 善和

  日本真空技術株式会社筑波超材料研究所

• 小原 建治郎

  日本原子力研究所

• 飯島 正行

  日本真空技術(株) 筑波超材料研究所

• 日比野 直樹

  日本真空技術株式会社

• 銭谷 利宏

  日本真空技術株式会社

• 太田 賀文

  日本真空技術株式会社

• 倉内 利春

  日本真空技術(株)筑波超材研

• 広木 成治

  日本原子力研究所 那珂研究所

• 田中 一郎

  日本真空技術 (株) 超材料研究所 筑波研究所

• 稲川 幸之助

  日本原子力研究所外来研究員, 日本真空技術 (株) 超材料研究所

• 阿部 哲也

  日本原子力研究所

• 稲川 幸之助

  日本真空技術 (株) 超材料研究所筑波研究所

• 飯島 正行

  日本真空技術 (株) 筑波超材料研究所

• 斉藤 一也

  日本真空技術 (株) 超材料研究所

• 村上 義夫

  日本原子力研究所

• 高橋 善和

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• 倉内 利春

  日本真空技術 (株) 超材料研究所

• 太田 賀文

  日本真空技術(株)

• 渡辺 一弘

  日本真空技術 (株) 超材料研究所

• 森田 正

  株式会社 アルバック 筑波超材料研究所

• 斎藤 一也

  日本真空技術株式会社

• 阿部 哲也

  原研

• 清水 昭

  日本真空技術株式会社

• 村上 義夫

  日本原子力研究所那珂研究所

• 阿部 哲也

  原研 那珂研

• 多田 勲

  日本真空技術株式会社

• 山守 哲也

  日本真空技術株式会社

• 森田 正

  日本真空技術(株)筑波超材研

• 箱守 宗人

  日本真空技術(株)筑波超材料研究所

• 湯池 祥之

  日本真空技術(株)

• 中村 和幸

  日本原子力研究所

• 飯島 正行

  日本真空技術(株)筑波超材料研究所

• 伊藤 裕

  (株) 日立製作所

• 溝口 忠憲

  (株) 日立製作所

• 佐川 準基

  (株) 日立製作所

• 梶浦 宗次

  (株) 日立製作所日立工場

• 飯島 正行

  日本真空技術 (株) 超材料研究所筑波研究所

• 斎藤 一也

  日本真空技術 (株) 超材料研究所

• 斉藤 一也

  日本真空技術 (株) 超材料研究所 筑波研究所

• 稲川 幸之助

  日本原子力研究所 日本真空技術(株) 超材料研究所 筑波研究所

• 稲川 幸之助

  日本原子力研究所外来研究員, 日本真空技術 (株), 超材料研究所

• 稲川 幸之助

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  日本真空技術 (株) 超材料研究所 筑波研究所

• 溝口 忠憲

  (株) 日立製作所日立工場

• 高橋 善和

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• 伊藤 昭夫

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• 湯池 祥之

  日本真空技術 (株) 超材料研究所

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著作論文

• 活性化反応性蒸着による透明バリアーアルミナ膜の生成と評価
• 2A06 JT-60第一壁保護膜の開発
• ARE(活性化反応性蒸着)法によるcBN膜(超硬質薄膜形成技術の新展開)
• セラミックス微細コ-ティングと最近の話題 (セラミックスの最新コ-ティング技術)
• 超硬性被膜の形成 (新しい表面処理技術)
• 真空蒸着およびスパッタによるAl膜の形成と評価
• 硬質膜の実用化開発
• 巻取方式マグネトロンプラズマ化学蒸着によるダイヤモンド状炭素膜の形成とその特性
• 超硬質膜形成と応用の展望(硬質膜の精密工業への応用)
• PVD 法による機能性材料(材料表面機能化とその材料特性)
• 超硬質皮膜の作製について
• 立方晶窒化ホウ素の薄膜合成 (薄膜の合成プロセスと応用--イオンインプランテ-ションを含めた新しい領域)
• c-BN薄膜の作製--現状と問題点 (進展する超薄膜技術)
• 透明バリヤー膜の形成技術
• 表面改質 (特殊鋼の技術動向と展望) -- (加工技術)
• 表面改質技術の進歩動向 (鋼材の表面改質)
• 包装用透明バリア膜の形成法とその特性 (特集 真空応用技術の展望)
• TiCを被覆したJT-60用第一壁材料の開発 (III) : HCD-ARE法によるインコネル基材へのコーティング
• 活性化反応性蒸着によるZrC膜の形成
• PVD法によるc-BN膜の生成
• 表面処理
• JT-60その場コーティング技術の検討 (IV) : チタン蒸発源の試作
• JT-60その場コーティング技術の検討 (II) : 反応性蒸着によるTiC膜の生成
• 真空中での芳香族ポリイミドの合成(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
• 真空中での芳香族ポリアミドの合成(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
• HCD-ARE法による炭化ケイ素膜の形成(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)

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