渡辺 一弘 | 日本真空技術(株)

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• 伊藤 昭夫

  日本真空技術(株)

• 渡辺 一弘

  日本真空技術(株)

• 稲川 幸之助

  日本真空技術(株) 千葉超材料研究所

• 渡辺 一弘

  日本真空技術 (株) 超材料研究所 筑波研究所

• 稲川 幸之助

  日本真空技術 (株) 超材料研究所

• 伊藤 昭夫

  日本真空技術 (株) 超材料研究所

• 斉藤 一也

  日本真空技術 筑波超材研

• 稲川 幸之助

  日本真空技術株式会社

• 斎藤 一也

  (株)アルバック筑波超材料研究所

• 田中 一郎

  日本真空技術 (株) 超材料研究所 筑波研究所

• 斉藤 一也

  日本真空技術 (株) 超材料研究所

• 渡辺 一弘

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• 斎藤 一也

  日本真空技術株式会社

• 阿部 哲也

  原研

• 村上 義夫

  日本原子力研究所那珂研究所

• 阿部 哲也

  日本原子力研究所 那珂研究所

• 阿部 哲也

  原研 那珂研

• 湯池 祥之

  日本真空技術(株)

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  (株) 日立製作所

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• 斎藤 一也

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• 斉藤 一也

  日本真空技術 (株) 超材料研究所 筑波研究所

• 稲川 幸之助

  日本真空技術 (株) 超材料研究所 筑波研究所

• 溝口 忠憲

  (株) 日立製作所日立工場

• 村上 義夫

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• 佐川 準基

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• 伊藤 裕

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• 湯池 祥之

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著作論文

• 2A06 JT-60第一壁保護膜の開発
• ARE(活性化反応性蒸着)法によるcBN膜(超硬質薄膜形成技術の新展開)
• TiCを被覆したJT-60用第一壁材料の開発 (III) : HCD-ARE法によるインコネル基材へのコーティング
• HCD-ARE法による炭化ケイ素膜の形成(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)

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