倉内 利春 | 日本真空技術 (株) 超材料研究所

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関連著者

• 倉内 利春

  日本真空技術(株)筑波超材研

• 倉内 利春

  日本真空技術 (株) 超材料研究所

• 森田 正

  株式会社 アルバック 筑波超材料研究所

• 森田 正

  日本真空技術(株)筑波超材研

• 山本 直志

  日本真空技術(株)筑波超材料研究所

• 山本 直志

  株式会社アルバック筑波超材料研究所

• 山本 直志

  株式会社 アルバック 筑波超材料研究所

• 松浦 正道

  日本真空・超材研

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• 松浦 正道

  日本真空技術 筑波超材料研

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• 箱守 宗人

  日本真空技術(株)筑波超材料研究所

• 稲川 幸之助

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• 三沢 俊司

  日本真空技術(株)筑波超材料研究所

• 三沢 俊司

  株式会社 アルバック 筑波超材料研究所

• 稲川 幸之助

  日本真空技術株式会社

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著作論文

• 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法によるギャップ用AIN膜の作製
• 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法によるアルミナ膜の電気特性(II)
• 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法によるギャップ用AIN膜の作製
• 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法を用いたNiFe膜の電気特性
• 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法による極薄アルミナ膜の電気特性
• 誘導結合高周波プラズマ支援マグネトロンスパッタを用いた極薄アルミナ膜の作製
• 誘導結合高周波プラズマ支援マグネトロンスパッタ放電におけるイオンエネルギー分布
• 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法による極薄アルミナ膜電気特性
• 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法を用いたNiFe/Cu多層膜のGMR特性 (多層膜・人工格子・グラニューラー)
• ICP支援スパッタ法を用いたNiFe/Cu多層膜のMR特性
• 誘導結合高周波プラズマ支援多元マグネトロンスパッタ法を用いたTiO_2/SiO_2多層膜の作製
• 真空蒸着およびスパッタによるAl膜の形成と評価
• 活性化反応性蒸着によるZrC膜の形成

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