松浦 正道 | 日本真空技術 筑波超材料研

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• 松浦 正道

  日本真空技術 筑波超材料研

• 松浦 正道

  日本真空・超材研

• 松浦 正道

  日本真空技術(株)超材料研究所

• 松浦 正道

  日本真空技術 (株) 超材料研究所

• 松浦 正道

  (株)アルバック筑波超材料研究所

• 森田 正

  株式会社 アルバック 筑波超材料研究所

• 山本 直志

  日本真空技術(株)筑波超材料研究所

• 山本 直志

  株式会社アルバック筑波超材料研究所

• 山本 直志

  株式会社 アルバック 筑波超材料研究所

• 森田 正

  日本真空技術(株)筑波超材研

• 倉内 利春

  日本真空技術(株)筑波超材研

• 倉内 利春

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• 千田 中哉

  日本真空・超材研

• 千田 中哉

  日本真空技術(株)超材料研究所

• 吉成 正雄

  東歯大・理工

• 塚原 園子

  日本真空技術(株)筑波超材料研究所

• 藤沼 明子

  日本真空技術(株)電子・イオン機器装置事業部

• 塚原 園子

  日本真空技術(株)

• 大塚 芳郎

  日本真空技術筑波超材料研究所

• 住井 俊夫

  東京歯科大学歯科理工学講座

• 住井 俊夫

  東歯大・理工

• 住井 俊夫

  東京歯科大学 歯理工

• 大塚 芳郎

  日本真空・超材研

• 住井 俊夫

  シドニー大学歯学部バイオマテリアル

• 王 裕昌

  日本真空技術(株)超材料研究所

• 住井 俊夫

  東京歯大

• 千田 中哉

  日本真空技術 (株) 超材料研究所

• 藤沼 明子

  日本真空技術 (株) 超材料研究所

• 小田 豊

  東歯大・理工

• 塚原 園子

  アルバックテクノ(株)ケミカルセンター

• 下野 正基

  東京歯科大学

• 吉成 正雄

  東京歯科大学

• 斎藤 一也

  日本真空技術株式会社

• 斎藤 一也

  (株)アルバック筑波超材料研究所

• 伊藤 昭夫

  日本真空技術(株)

• 三沢 俊司

  日本真空技術(株)筑波超材料研究所

• 三沢 俊司

  株式会社 アルバック 筑波超材料研究所

• 工藤 康之

  東歯大・理工

• 斉藤 一也

  日本真空技術 筑波超材研

• 大山 貴司

  東歯大・理工

• DERAND T.

  Lund大・歯・理工

• 安部 薫

  日本真空技術(株)筑波超材料研究所

• 塚原 園子

  産業技術総合研究所

• 石川 仁

  東歯大・理工

• 井上 孝

  東京歯科大学 口腔科学研究センターhrc7臨床検査学研究室

• 継枝 孝行

  日本真空技術(株)筑波超材料研究所

• 箱守 宗人

  日本真空技術(株)筑波超材料研究所

• 塚原 園子

  日本真空技術 筑波超材研

• 塚原 園子

  日本真空技術

• 林 康明

  日本真空技術 (株) 超材料研究所

• 泉 宏比呂

  日本真空技術 (株) 超材料研究所

• 林 康明

  京都工芸繊維大学工芸科学研究科電子システム工学専攻

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著作論文

• A-11 Ion Beam Dynamic Mixing法によりTi基板上に形成したHydroxyapatite薄膜の物性 : 熱処理の影響
• P-16 Ion Beam Dynamic Mixing法によりTi基板上に形成したHydroxyapatite薄膜の物性
• 3B24 イオンミキシングによるメタライゼーションを応用したセラミックスと金属との固相接合
• 1B14 イオンミキシングによる AlN の Cu メタライゼーション
• イオンビーム・ダイナミックミキシング法によるセラミックスのCu又はMoメタライゼーション
• イオンビ-ムダイナミックミキシングによってMoメタライズしたSi3N4,SiC,Al2O3とCuとの接合
• 1A08 ダイナミックミキシング法によるセラミックスのメタライゼーション (II)
• B-13 チタン基板上に形成したリン酸カルシウム薄膜の物性 : 急速加熱法による溶解性の制御
• 超短波帯プラズマ化学気相成長法によるSiNx膜の作製
• B-9 ダイナミックミキシング法を用いたTi-Ni形状記憶合金の表面改質に関する研究(第2報)
• 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法によるギャップ用AIN膜の作製
• 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法によるアルミナ膜の電気特性(II)
• 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法によるギャップ用AIN膜の作製
• 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法を用いたNiFe膜の電気特性
• 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法による極薄アルミナ膜の電気特性
• 誘導結合高周波プラズマ支援マグネトロンスパッタを用いた極薄アルミナ膜の作製
• 誘導結合高周波プラズマ支援マグネトロンスパッタ放電におけるイオンエネルギー分布
• 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法による極薄アルミナ膜電気特性
• 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法を用いたNiFe/Cu多層膜のGMR特性 (多層膜・人工格子・グラニューラー)
• ICP支援スパッタ法を用いたNiFe/Cu多層膜のMR特性
• 誘導結合高周波プラズマ支援多元マグネトロンスパッタ法を用いたTiO_2/SiO_2多層膜の作製
• 偏光解析モニタのプロセス装置への組み込みに対する対策
• イオンビームミキシングによる歯科インプラント用Ti-Ni形状記憶合金へのTiパッシベーション膜の作製

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