超短波帯プラズマ化学気相成長法によるSiNx膜の作製
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概要
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- 2000-03-20
著者
-
斎藤 一也
日本真空技術株式会社
-
斎藤 一也
(株)アルバック筑波超材料研究所
-
斉藤 一也
日本真空技術 筑波超材研
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松浦 正道
日本真空・超材研
-
松浦 正道
日本真空技術(株)超材料研究所
-
安部 薫
日本真空技術(株)筑波超材料研究所
-
松浦 正道
(株)アルバック筑波超材料研究所
-
松浦 正道
日本真空技術 筑波超材料研
-
継枝 孝行
日本真空技術(株)筑波超材料研究所
-
斎藤 一也
日本真空技術 (株) 超材料研究所
-
松浦 正道
日本真空技術 (株) 超材料研究所
-
継枝 孝行
日本真空技術(株)
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