AF-04 "GT TARGET", A NEW HIGH RATE SPUTTERING TARGET OF MAGNETIC MATERIALS(1982年インタ-マグ報告)
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概要
著者
-
伊藤 昭夫
日本真空技術(株)
-
太田 賀文
日本真空技術株式会社
-
中村 久三
日本真空技術(株) 千葉超材研
-
山田 太起
日本真空技術(株)超材料研究所
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中村 久三
日本真空技術(株)超材料研究所
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伊藤 昭夫
日本真空技術 (株) 超材料研究所
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山田 太起
日本真空技術(株)
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中村 久三
日本真空技術(株)
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太田 賀文
日本真空技術(株)
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