光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第2報) : シリコンウエハ表面付着微粒子の測定
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概要
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A new method for measuring particle sizes of nanometer (nm) order has been developed using a light-scattering method with Ar^+ laser. In this study, it was tried to decrease the background noise in the optical instruments, and to do theoretical analysis for signal noise ratio (S/N) with shot noise on a photo-multiplier (PMT). Consequently, it was verified theoretically that this measuring method is applicable for detecting the particle of nm order sizes. Furthermore, it was carried out detecting for particles on the surface of raw Si wafer with this measuring system, and it could be detected a voltage signal corresponding to a particle diameter about 20 nm.
- 1990-10-05
著者
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